Preparation and characterization of ZnO particles embedded in Si O2 matrix by reactive magnetron sputtering

Journal of Applied Physics

Volumn 97, Issue 10, 2005, Pages

  Ma, J G ^a,b   Liu, Y C ^a   Xu, C S ^a   Liu, Y X ^a   Shao, C L ^a   Xu, H Y ^a,b   Zhang, J Y ^b   Lu, Y M ^b   Shen, D Z ^b   Fan, X W ^b  

^a NORTHEAST NORMAL UNIVERSITY   (China)

^b CHANGCHUN INSTITUTE OF OPTICS   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING TEMPERATURE; RADIO-FREQUENCY MAGNETRON SPUTTERING; ROOM TEMPERATURE; WURTZITE STRUCTURE;

ABSORPTION SPECTROSCOPY; ACTIVATION ENERGY; ANNEALING; FOURIER TRANSFORM INFRARED SPECTROSCOPY; MAGNETRON SPUTTERING; PHOTOLUMINESCENCE; RAMAN SCATTERING; SILICA; THIN FILMS; X RAY DIFFRACTION ANALYSIS;

ZINC OXIDE;

EID: 20944445415     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1897493     Document Type: Article

References (43)

1. K. Hümmer, Phys. Status Solidi B 56, 249 (1973).
2. P. Yu, S. K. Tang, G. K. L. Wong, M. Kawasaki, A. Ohotomo, H. Koinuma, and Y. Segawa, Solid State Commun. 103, 459 (1997).
3. D. M. Bagnall, Y. F. Chen, Z. Zhu, T. Yao, S. Koyama, M. Y. Shen, and T. Goto, Appl. Phys. Lett. 70, 2230 (1997).
4. Y. Harada and S. Hashimoto, Phys. Rev. B 68, 045421 (2003).
5. D. C. Look, D. C. Reynolds, J. R. Sizelore, R. L. Jones, C. W. Litton, G. Cantwell, and W. C. Harsch, Solid State Commun. 105, 399 (1998).
6. T. Makino, K. Tamura, C. H. Chia, Y. Segawa, M. Kawasaki, A. Ohtomo, and H. Koinuma, J. Appl. Phys. 92, 7157 (2002).
7. K. Ogata, K. Maejima, Sz. Fujita, and Sg. Fujita, J. Cryst. Growth 248, 25 (2003).
8. S.-W. Kim, S. Fujita, and S. Fujita, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 41, L543 (2002).
9. L. Mädler, W. J. Stark, and S. E. Pratsinis, J. Appl. Phys. 92, 6537 (2002).
10. Y. Dai, Y. Zhang, Q. K. Li, and C. W. Nan, Chem. Phys. Lett. 358, 83 (2002).
11. Z. W. Pan, Z. R. Dai, and Z. L. Wang, Science 291, 1947 (2001).
12. S. Monticone, R. Tufeu, and A. V. Kanaev, J. Phys. Chem. B 102, 2854 (1998).
13. Y. W. Wang, L. D. Zhang, G. Z. Wang, X. S. Peng, Z. Q. Chu, and C. H. Liang, J. Cryst. Growth 234, 171 (2002).
14. V. A. L. Roy, A. B. Djurišić, W. K. Chan, J. Gao, H. F. Lui, and C. Surya, Appl. Phys. Lett. 83, 141 (2003).
15. R. Ondo-Ndong, G. Ferblantier, M. Al Kalfioui, A. Boyer, and A. Foucaran, J. Cryst. Growth 255, 130 (2003).
16. J. H. Jou and M. Y. Han, J. Appl. Phys. 71, 4333 (1992).
17. Y. Igasaki and H. Saito, J. Appl. Phys. 70, 3613 (1991).
18. B. D. Cullity, Elements of X-Ray Diffractions (Addison-Wesley, Reading, MA, 1978), p. 102.
19. E. M. Wong and P. C. Searson, Appl. Phys. Lett. 74, 2939 (1999).
20. T. Tanigaki, H. Suzuki, Y. Kimura, O. Kido, Y. Saito, and C. Kaito, J. Cryst. Growth 256, 317 (2003).
21. A. J. M. de Man, B. W. H. van Beest, M. Leslie, and R. A. van Santen, J. Phys. Chem. 94, 2524 (1990).
22. J. P. Rainho, J. Rocha, L. D. Carlos, and R. M. Almeida, J. Mater. Res. 16, 2369 (2001).
23. S. H. Ehrman, S. K. Friedlander, and M. R. Zachariah, J. Mater. Res. 14, 4551 (1999).
24. J. F. Scott, Phys. Rev. B 2, 1209 (1970).
25. X. T. Zhang, J. Phys. D 34, 3430 (2002).
26. M. Rajalakshmi, A. K. Arora, B. S. Bendre, and S. Mahamuni, J. Appl. Phys. 87, 2445 (2000).
27. J. M. Pawlikowski, Phys. Rev. B 26, 4711 (1982).
28. A. van Dijken, E. A. Meulenkamp, D. Vanmaekelgergh, and A. Meijerink, J. Phys. Chem. B 104, 1715 (2000).
29. S. Choopun, R. D. Vispute, W. Noch, A. Balsamo, R. P. Sharma, T. Venkatesan, A. Zliadis, and D. C. Look, Appl. Phys. Lett. 75, 3947 (1999).
30. L. E. Brus, J. Chem. Phys. 80, 4403 (1984).
31. K. Vanhausden, W. L. Warren, C. H. Seager, D. R. Tallant, J. A. Voigt, and B. E. Gnade, J. Appl. Phys. 79, 7983 (1996).
32. J. W. Hu and Y. Bando, Appl. Phys. Lett. 82, 1401 (2003).
33. S. A. Studenikin and M. Cocivera, J. Appl. Phys. 91, 5060 (2002).
34. D. C. Reynolds, D. C. Look, and B. Jogai, J. Appl. Phys. 89, 6189 (2001).
35. B. D. Yao, Y. F. Chan, and N. Wang, Appl. Phys. Lett. 81, 757 (2002).
36. S. Chakrabarti, D. Das, D. Ganguli, and S. Chaudhuri, Thin Solid Films 441, 228 (2003).
37. Q. X. Zhao, M. Wilander, R. E. Morjan, Q.-H. Hu, and E. E. B. Campbell, Appl. Phys. Lett. 83, 165 (2003).
38. N. Ohashi, T. Sekiguchi, K. Aoyama, T. Ohgaki, Y. Terada, F. Sakaguchi, T. Tsurumi, and H. Haneda, J. Appl. Phys. 91, 3658 (2002).
39. D. C. Reynolds, D. C. Look, B. Jogai, R. L. Jones, C. W. Litton, W. Harsch, and G. Cantwell, J. Lumin. 82, 173 (1999).
40. P. O. Holtz, B. Monemar, and H. J. Lozykowski, Phys. Rev. B 32, 986 (1985).
41. P. Lautenschlager, M. Garriga, S. Logothetidis, and M. Gardona, Phys. Rev. B 35, 9174 (1987).
42. X. T. Zhang, J. Lumin. 99, 149 (2002).
43. H. D. Sun, T. Makino, N. T. Tuan, Y. Segawa, M. Kawasaki, A. Ohtomo, K. Tamura, and H. Koinuma, Appl. Phys. Lett. 78, 2464 (2001).