Silane coupling agents. Part IX. Epoxyfunctional carbosilanes;Silanowe środki wia̧ża̧ce: Cz. IX. Epoksyfunkcyjne Karbosilany

Polimery/Polymers

Volumn 49, Issue 10, 2004, Pages

  Maciejewski, Hieronim ^a   Da̧bek, Izabela ^a   Marciniec, Bogdan ^a  

^a ADAM MICKIEWICZ UNIVERSITY   (Poland)

Author keywords

Adhesion promoters; Carbosilanes; Coupling agents; Crosslinking agents; Epoxyfunctional silanes; Hydrosilylation

Indexed keywords

ADHESION; CATALYSIS; CROSSLINKING; POLYMERS; SYNTHESIS (CHEMICAL);

ADHESION PROMOTERS; CARBOSILANES; COUPLING AGENTS; CROSSLINKING AGENTS; EPOXYFUNCTIONAL SILANES; HYDROSILYLATION;

SILANES;

EID: 19544362194     PISSN: 00322725     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.14314/polimery.2004.677     Document Type: Article

References (90)

1. Kroschwitz J. I., Howe-Grant M. (redaktorzy): "Kirk-Othmer Encyclopedia of Chemical Technology", 4 wyd., Wiley, Nowy Jork 1997.
2. Pluddemann E. P.: w "Silanes and Other Coupling Agents" (red. Mittal K. L.), VSP, Utrecht 1992, str. 3-19.
3. Tesoro J. G., Wu Y.: w [2], str. 215-228.
4. Pluddemann E. P.: "Silane Coupling Agents", wydanie 2., Plenum, Nowy Jork 1991.
5. Guliński J., Maciejewski H.: Chemik 1998, 5, 119.
6. Marciniec B., Guliński J., Mirecki J.: Polimery 1990, 35, 213.
7. Marciniec B., Guliński J.: Polimery 1992, 37, 72.
8. Marciniec B., Urbaniak W., Maciejewski H.: Polimery 1993, 38, 53.
9. Marciniec B., Guliński J.: Polimery 1995, 40, 77.
10. Marciniec B., Foltynowicz Z.: Polimery 1995, 40, 144.
11. Maciejewski H., Guliński J., Marciniec B.: Polimery 1998, 43, 75.
12. Urbaniak W., Marciniec B.: Polimery 1998, 43, 148.
13. Maciejewski H., Guliński J., Marciniec B.: Polimery 1998, 43, 219.
14. Materiały reklamowe firm Witco Corp., Shin Etsu, Degussa Hüls, Power Chemical Corp.
15. Pat. francuski 1 526 231 (1968).
16. Praca zbiorowa: "Comprehensive Handbook on Hydrosilylation" (red. Marciniec B.), Pergamon, Oxford 1992.
17. Oijma I.: w "The Silicon Organic Chemistry" (red. Rappoport Z., Apoeloig Y.), J. Wiley & Sons, Chichester 1998.
18. Marciniec B.: Silic. Chem. 2002, 1, 155.
19. Marciniec B., Guliński J., Maciejewski H.: w "Encyclopedia of Catalysis" (red. Horvath I.), J. Wiley & Sons, Nowy Jork 2003.
20. Pat. europ. 288 286 (1988).
21. Pat. niem. 1 937 904 (1970).
22. Pat. niem. 1 259 887 (1968).
23. Pat. europ. 277 023 (1988).
24. Pat. jap. 2000 128 763 (2000).
25. Pat. niem. 2 159 991(1973).
26. Pat. USA 4 966 981 (1990).
27. Pat. USA 5 986 124 (1999).
28. Pat. USA 4 804 768 (1989).
29. Pol. zgłosz. pat. 351 449 (2001).
30. Pat. europ. 262 642 (1988).
31. Pat. USA 6 100 408 (2000).
32. Pat. USA 4 736 049 (1988).
33. Polskie zgłosz. pat. 368 154 (2004).
34. Pat. USA 5 155 233 (1992).
35. Pat. jap. 2001 055 487 (2001).
36. Pat. jap. 2001 031 837 (2001).
37. Pat. jap. 2001 031 843 (2001).
38. Pat. jap. 2001 024 005 (2001).
39. Pat. jap. 2001 031 841 (2001).
40. Pat. jap. 2002 003 578 (2002).
41. Pat. jap. 2002 003 703 (2002).
42. Pat. jap. 2000 351 833 (2000).
43. Pat. jap. 2002 037 980 (2002).
44. Pat. jap. 2001 151 866 (2001).
45. Pat. jap. 2001 158 851 (2001).
46. Pat. jap. 2001 002 755 (2001).
47. Pat. jap. 2002 037 983 (2002).
48. Pat. europ. 1 176 422 (2002).
49. Pat. jap. 2001 089 654 (2001).
50. Pat. jap. 2001 049 185 (2001).
51. Pat. jap. 2002 003 813 (2002).
52. Zgłosz. pat. USA 2002/0022682 (2002).
53. Pat. jap. 2001 049 453 (2001).
54. Pat. jap. 2002 035 685 (2002).
55. Pat. koreański 38 944 (2000).
56. Pat jap. 2001 131 475 (2001).
57. Pat. jap. 2002 035 687 (2002).
58. Pat. jap. 2001 002 998 (2001).
59. Pat. jap. 2001 164 195 (2001).
60. Pat PCT Int Appl. WO 01 20 058 (2001).
61. Pat jap. 2000 343 659 (2000).
62. Pat. jap. 2002 059 519 (2002).
63. Pat. jap. 2002 059 517 (2002).
64. Pat. jap. 2002 030 167 (2002).
65. Pat. jap. 2002 152 084 (2002).
66. Pat. jap. 2001 009 973 (2001).
67. Pat. jap. 2001 009 974 (2001).
68. Pat. jap. 2001 030 450 (2001).
69. Pat. jap. 2001 009 976 (2001).
70. Pat. jap. 2001 009 975 (2001).
71. Pat. jap. 2002 046 209 (2002).
72. Pat. jap. 2002 046 208 (2002).
73. Hoebbel D., Nacken M., Schmidt H.: J. Sol-Gel Sci. Technol. 2000, 19, 305.
74. Ochi M., Takahashi R., Terauchi A.: Polymer 2001, 42, 5151.
75. Li H., Chen Y., Zhang G., Ruan Ch., Xie Y.: Proc. SPIE - Int. Soc. Opt., Eng. 2000, 4086, 725.
76. Tomonaga H., Morimoto T.: J. Sol-Gel Sci. Technol. 2000, 19, 681.
77. Tomonaga H., Morimoto T.: Thin Solid Films 2001, 392, 355.
78. Innocenzi P., Brusatin G., Guglielni M., Signorini R., Meneghetti M., Bozio R., Maggini M., Scorrand G., Prato M.: J. Sol-Gel Sci. Technol. 2000, 19, 263.
79. Pat. jap. 2000 326 440 (2000).
80. Park Y. I., Nagai M.: J. Electrochem. Soc. 2001, 148, A 616.
81. Yamadu K., Haraquchi T., Yamane H., Ide S., Izomura K., Takehara K., Kajiyama Ch.: Kitakyushukogyo Koto Senmon Gakko Kenkyu Hokoku 2001, 34, 121.
82. Pat. chiński 1 296 044 (2001).
83. Pat. jap. 2001 040 528 (2001).
84. Pat. jap. 2001 164 098 (2001).
85. Pat. jap. 2002 037 021 (2002).
86. Pat jap. 2000 319 578 (2000).
87. Pat. jap. 2001 081 153 (2001).
88. Pat. chiński 1 255 634 (2000).
89. Chen Y., Kang E. T., Neoh K. G., Huang W.: Langmuir 2001, 17, 7425.
90. Kramer J., Scholten A., Driessen W. L., Reeolijk J.: Inorg. Chim. Acta 2001, 315, 183.