Interface-oxygen-loss-controlled voltage offsets in epitaxial Pb (Zr0.52 Ti0.48) O3 thin-film capacitors with La0.7 Sr0.3 Mn O3 electrodes

Applied Physics Letters

Volumn 85, Issue 21, 2004, Pages 5013-5015

  Wu, Wenbin ^a,b   Wong, K H ^b   Choy, C L ^b  

^a UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY OF CHINA   (China)

^b HONG KONG POLYTECHNIC UNIVERSITY   (Hong Kong)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING; ELECTRIC FIELDS; ELECTRODES; EPITAXIAL GROWTH; FERROELECTRIC DEVICES; FERROELECTRICITY; HYSTERESIS; LEAD ALLOYS; LOW TEMPERATURE EFFECTS; PHASE TRANSITIONS; PULSED LASER DEPOSITION; THIN FILM DEVICES;

FERROELECTRIC CAPACITORS; HYSTERESIS LOOPS; OXYGEN INSTABILITY; THIN FILM CAPACITORS;

CAPACITORS;

EID: 19144366885     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1827929     Document Type: Article

References (22)

1. J. F. M. Cillessen, M. W. J. Prins, and R. M. Wolf, J. Appl. Phys. 81, 2777 (1997).
2. G. E. Pike, W. L. Warren, D. Dimos, B. A. Tuttle, R. Ramesh, J. Lee, V. G. Karamidas, and J. T. Evans, Jr., Appl. Phys. Lett. 66, 484 (1995).
3. J. Lee, R. Ramesh, V. G. Keramidas, W. L. Warren, G. E. Pike, and J. T. Evans, Jr., Appl. Phys. Lett. 66, 1337 (1995).
4. S. Aggarwal, A. M. Dhote, R. Ramesh, W. L. Warren, G. E. Pike, D. Dimos, M. V. Raymond, and J. T. Evans, Jr., Appl. Phys. Lett. 69, 2540 (1996).
5. T. Friessnegg, S. Aggarwal, R. Ramesh, B. Nielsen, E. H. Poindexter, and D. J. Keeble, Appl. Phys. Lett. 77, 127 (2001).
6. S. H. Kim, D. J. Kim, J. Hong, S. K. Streiffer, and A. I. Kingon, J. Mater. Res. 14, 1371 (1999).
7. S. Madhukar, S. Aggarwal, A. D. Dhote, R. Ramesh, A. Kishnan, D. Keeble, and E. Poindexter, J. Appl. Phys. 81, 3543 (1997).
8. J. M. D. Coey, M. Viret, L. Ranno, and K. Ounadjela, Phys. Rev. Lett. 75, 3910 (1995).
9. W. Wu, K. H. Wong, X.-G. Li, C. L. Choy, and Y. H. Zhang, J. Appl. Phys. 87, 3006 (2000).
10. J. R. Sun, C. F. Yeung, K. Zhao, L. Z. Zhou, C. H. Leung, H. K. Wong, and B. G. Shen, Appl. Phys. Lett. 76, 1164 (2000).
11. W. Wu, K. H. Wong, C. L. Choy, and Y. H. Zhang, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 10.1063/1.1327279 77, 3441 (2000);
12. W. Wu, Y. Wang, G. K. H. Pang, K. H. Wong, and C. L. Choy, Appl. Phys. Lett. 85, 1583 (2004).
13. A. Gruverman, B. J. Rodriguez, A. I. Kingon, R. J. Nemanich, A. K. Tagantsev, J. S. Cross, and M. Tsukada, Appl. Phys. Lett. 83, 728 (2003).
14. B. Noheda, J. A. Gonzalo, L. E. Cross, R. Guo, S.-E. Park, D. E. Cox, and G. Shirane, Phys. Rev. B 61, 8687 (2000).
15. Y. M. Kang and S. Baik, J. Appl. Phys. 0021-8979 10.1063/1.366064 82, 2532 (1997);
16. K. S. Lee and S. Baik, J. Appl. Phys. 0021-8979 10.1063/1.369195 85, 1995 (1999);
17. K. S. Lee and S. Baik, J. Appl. Phys. 87, 8035 (2000).
18. S. K. Streiffer, J. A. Eastman, D. D. Fong, C. Thompson, A. Munkholm, M. V. Ramana Murty, O. Auciello, G. B. Bai, and G. B. Stephenson, Phys. Rev. Lett. 89, 067601 (2002).
19. A. L. Roytburd, S. P. Alpay, L. A. Bendersky, V. Nagarajan, and R. Ramesh, J. Appl. Phys. 89, 553 (2001).
20. C. M. Foster, Z. Li, M. Buckett, D. Miller, P. M. Baldo, L. E. Rehn, G. R. Bai, D. Guo, H. You, and K. L. Merkle, J. Appl. Phys. 78, 2607 (1995).
21. C. Kittel, Introduction to Solid State Physics, 6th ed. (, John Wiley, Singapore, 1988).
22. E. J. Tarsa, E. A. Hachfeld, F. T. Quinlan, J. S. Speck, and M. Eddy, Appl. Phys. Lett. 68, 490 (1996).