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Volumn 80, Issue 4, 2000, Pages 459-473

Plasma-enhanced chemical vapour deposition of microcrystalline silicon: On the dynamics of the amorphous-microcrystalline interface by optical methods

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EID: 18744402453     PISSN: 13642812     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1080/014186300255113     Document Type: Conference Paper
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.