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Volumn 34, Issue 2, 2005, Pages 312-315

Formation of GaN film by ammoniating Ga2O3/Al2O3 deposited on Si(lll) substrate

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Ammoniating; Ga2O3 Al2O3 film; GaN; Magnetron sputtering

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EID: 14844362621     PISSN: 1002185X     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Article
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.