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Volumn 5074, Issue , 2003, Pages 60-71

State of the art in large format IR FPA development at CMC Electronics Cincinnati

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INFRARED DETECTORS; INTEGRATED CIRCUIT LAYOUT; SENSORS; SILICON WAFERS;

EID: 1342311255     PISSN: 0277786X     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: 10.1117/12.487644     Document Type: Conference Paper
Times cited : (12)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.