Fullerene Self-Assembly onto (MeO)3Si(CH2)3NH2-Modified Oxide Surfaces

Journal of the American Chemical Society

Volumn 115, Issue 3, 1993, Pages 1193-1194

  Chen, Kaimin ^a   Caldwell, W Brett ^a   Mirkin, Chad A ^a  

^a NORTHWESTERN UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 12044259829     PISSN: 00027863     EISSN: 15205126     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/ja00056a080     Document Type: Article

References (31)

1. Jehoulet, C.; Obeng, Y. S.; Kim, Y.; Zhou, F.; Bard, A. J. J. Am. Chem. Soc 1992, 114, 4237.
2. Nakamura, T.; Tachibana, H.; Yumura, M.; Matsumoto, M.; Azumi, R.; Tanaka, M.; Kawabata, Y. Langmuir 1992, 8, 4.
3. Obeng, Y. S.; Bard, A. J. J. Am. Chem. Soc 1991, 113, 6279.
4. Jehoulet, C.; Bard, A. J.; Wudl, F. J. Am. Chem. Soc 1991, 113, 5456.
5. Hebard, A. F.; Rosseinsky, M. J.; Haddon, R. C.; Murphy, D. W.; Glarum, S. H.; Palstra, T. T. M.; Ramirez, A. P.; Kortan, A. R. Nature 1991, 350, 600.
6. Chen, C.; Kelty, S. P.; Lieber, C. M. Science 1991, 253, 886.
7. Iqbal, Z.; Baughman, R. H.; Ramakrishna, B. L.; Khare, S.; Murthy, N. S.; Bornemann, H. J.; Morris, D. E. Science 1991, 254, 826.
8. Kortan, A. R.; Kopylov, N.; Glarum, S.; Gyorgy, E. M.; Ramirez, A. P.; Fleming, R. M.; Thiel, F. A.; Haddon, R. C. Nature 1992, 355, 529.
9. Fleming, R. M.; Rosseinsky, M. J.; Ramirez, A. P.; Murphy, D. W.; Tully, J. C.; Haddon, R. C.; Siegrist, T.; Tycko, R.; Glarum, S. H.; Marsh, P.; Dabbagh, G.; Zahurak, S. M.; Makhija, A. V.; Hampton, C. Nature 1991, 352, 701.
10. Wang, X. Κ.; Zhang, T. G.; Lin, W. P.; Liu, S.; Wong, G. W.; Kappes, M. M.; Chang, R. P. H.; Ketterson, J. B. Appl. Phys. Lett 1992, 60, 810.
11. Maoz, R.; Sagiv, J. Langmuir 1987, 3, 1034.
12. Maoz, R.; Sagiv, J. Langmuir 1987, 3, 1045.
13. Tillman, N.; Ulman, A.; Schildkraut, J. S.; Penner, T. L. J. Am. Chem. Soc 1988, 110, 6136.
14. Tillman, N.; Ulman, A.; Penner, T. L. Langmuir 1989, 5, 101.
15. Widrig, C. A.; Miller, C. J.; Majda, M. J. J. Am. Chem. Soc 1988, 110, 2009.
16. De Long, H. C.; Buttry, D. A. Langmuir 1990, 6, 1319.
17. Lang, R. F.; Hubbard, A. T. J. Phys. Chem 1973, 77, 1401.
18. Brown, A. P.; Anson, F. C. Anal. Chem 1977, 49, 1589.
19. Murray, R. W. In Electroanalytical Chemistry, Bard, A. J., Ed.; Marcel Dekker: New York, 1984; Vol. 13, p 191.
20. Molecular Design of Electrode Surfaces; Murray. R. W., Ed.; Wiley: New York, 1992.
21. Hirsch, A.; Li, Q.; Wudl, F. Angew. Chem., Int. Ed. Engl 1992, 30, 1309.
22. Wudl, F. Acc. Chem. Res 1992, 25, 157.
23. Moses, P. R.; Wier, L.; Murray, R. W. Anal. Chem 1975, 47, 1882.
24. Haller, I. J. Am. Chem. Soc 1978, 100, 8050.
25. Bain, C. D.; Troughton, E. B.; Tao, Y.-T.; Evall, J.; Whitesides, G. M.; Nuzzo, R. G. J. Am. Chem. Soc 1989, 111, 321.
26. Dubois, D.; Kadish, K. M.; Flanagan, S.; Wilson, L. J. J. Am. Chem. Soc 1991, 113, 7773.
27. Dubois, D.; Kadish, K. M.; Flanagan, S.; Haufler, R. E.; Chibante, L. P. F.; Wilson, L. J. J. Am. Chem. Soc 1991, 113, 4364.
28. Allemand, P.; Koch, A.; Wudl, F.; Rubin, Y.; Diederich, F.; Alvarez, M. M.; Anz, S. J.; Whetten, R. L. J. Am. Chem. Soc 1991, 113, 1050.
29. Xie, Q.; Perez-Cordero, E.; Echegoyen, L. J. Am. Chem. Soc 1992, 114, 3978.
30. Liu, S.; Lu, Y.; Kappes, M. M.; Ibers, J. A. Science 1991, 254, 408.
31. Fagan, P. J.; Calabrese, J. C.; Malone, B. Acc. Chem. Res 1992, 25, 134.