Nanoscale electrochemistry

Physical Review Letters

Volumn 80, Issue 25, 1998, Pages 5599-5602

  Schuster, R ^a   Kirchner, V ^a   Xia, X H ^a   Bittner, A M ^a,b   Ertl, G ^a  

^a FRITZ HABER INSTITUT DER MAX PLANCK GESELLSCHAFT   (Germany)

^b EPFL   (Switzerland)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 11544276541     PISSN: 00319007     EISSN: 10797114     Source Type: Journal    
DOI: 10.1103/PhysRevLett.80.5599     Document Type: Article

References (25)

1. U. Staufer, in Scanning Tunneling Microscopy II, H.-J. Güntherodt and R. Wiesendanger (Springer-Verlag, Berlin, 1992), p. 273.
2. R. Wiesendanger: J. Vac. Sci. Technol. B: 12, 515 (1994).
3. R. M. Nyffenegger and R. M. Penner: Chem. Rev.: 97, 1195 (1997).
4. D. M. Eigler and E. K. Schweizer: Nature (London): 344, 524 (1990).
5. J. A. Stroscio and D. M. Eigler: Science: 254, 1319 (1991).
6. P. Avouris and I. Lyo: Appl. Surf. Sci.: 60/61, 426 (1992).
7. G. Meyer, L. Bartels, S. Zöphel, E. Henze, and K. Rieder: Phys. Rev. Lett.: 78, 1512 (1997).
8. H. J. Mamin, S. Chiang, H. Birk, P. H. Guethner, and D. Rugar: J. Vac. Sci. Technol. B: 9, 1398 (1991).
9. W. Li, J. A. Virtanen, and R. M. Penner: Appl. Phys. Lett.: 60, 1181 (1992).
10. W. Li, G. S. Hsiao, D. Harris, R. M. Nyffenegger, J. A. Virtanen, and R. M. Penner: J. Phys. Chem.: 100, 20 103 (1996).
11. D. M. Kolb, R. Ullmann, and T. Will: Science: 275, 1097 (1997).
12. D. M. Mandler and A. J. Bard: J. Electrochem. Soc.: 137, 1079 (1990).
13. J. O'M. Bockris and A. K. N. Reddy, Modern Electrochemistry (Plenum, New York, 1970).
14. W. Haiss, D. Lackey, J. K. Sass, and K. H. Besocke: J. Chem. Phys.: 95, 2193 (1991).
15. A. M. Bittner, J. Wintterlin, and G. Ertl: J. Electroanal. Chem.: 388, 225 (1995).
16. H. Hondo, S. Sugawara, and K. Itaya: Anal. Chem.: 62, 2424 (1990).
17. X. Gao and M. J. Weaver: J. Electroanal. Chem.: 367, 259 (1994).
18. C. M. Vitus and A. J. Davenport: J. Electrochem. Soc.: 141, 1291 (1994).
19. C. Lebreton and Z. Z. Wang: Scanning Microsc.: 8, 441 (1994).
20. C. Lebreton and Z. Z. Wang: J. Vac. Sci. Technol. B: 14, 1356 (1996).
21. R. Ullmann, T. Will, and D. M. Kolb: Chem. Phys. Lett.: 209, 238 (1993).
22. G. Meyer, S. Zöphel, and K. H. Rieder: Appl. Phys. A, Mater. Sci. Process.: 63, 557 (1996).
23. J. P. Rabe and S. Buchholz: Appl. Phys. Lett.: 58, 702 (1991).
24. P. Avouris, T. Hertel, and R. Martel: Appl. Phys. Lett.: 71, 285 (1997).
25. H. Sugimura, T. Uchida, N. Kitamura, and H. Masuhara: J. Phys. Chem.: 98, 4352 (1994).