Transient electrophosphorescence in red top-emitting organic light-emitting devices

Applied Physics Letters

Volumn 85, Issue 20, 2004, Pages 4771-4773

  Moon, D G ^a   Pode, R B ^a   Lee, C J ^a   Han, J I ^a  

^a Korea Electronic Technology Institute (KETI)   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DEPOSITION; ELECTRIC POTENTIAL; ELECTROLUMINESCENCE; EXCITONS; MAGNETRON SPUTTERING; PHOSPHORESCENCE; PHOTOLITHOGRAPHY; SPECTRUM ANALYSIS;

ELECTRON INJECTION; ELECTROPHOSPHORESCENCE; INJECTION LAYERS; ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICES;

LIGHT EMITTING DIODES;

EID: 10944225046     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1815372     Document Type: Article

References (23)

1. J. Kido, H. Haromichi, K. Hongawanawa, K. Nagai, and K. Okuyama, Appl. Phys. Lett. 65, 2124 (1994).
2. M. A. Baldo, D. F. Brien, Y. You, A. Shoustikov, S. Sibley, M. E. Thompson, and S. R. Forrest, Nature (London) 395, 151 (1998).
3. B. W. D'Andrade, J. Brooks, V. Adamovich, M. E. Thompson, and S. R. Forrest, Adv. Mater. (Weinheim, Get.) 14, 1032 (2002).
4. R. J. Holems, S. R. Forrest, Y.-J. Tung, R. C. Kwong, J. J. Brown, S. Garon, and M. E. Thompson, Appl. Phys. Lett. 82, 2422 (2003).
5. S. Tokito, T. Iijima, Y. Suzuri, H. Kita, T. Tsuzuki, and F. Sato, Appl. Phys. Lett. 83, 569 (2003).
6. H. Reil, S. Karg, T. Beierlein, B. Ruhstaller, and W. Rieb, Appl. Phys. Lett. 82, 466 (2003).
7. Y. Kawamura, S. Yanagida, and S. R. Forrest, J. Appl. Phys. 92, 87 (2002).
8. C.-L. Lee, K. B. Lee, and J.-J. Kim, Appl. Phys. Lett. 77, 2280 (2000).
9. M. Klessinger and J. Michi, Excited States and Photochemistry of Organic Molecules (VCH, New York, 1995).
10. C. Adachi, M. A. Baldo, S. R. Forrest, and M. E. Thompson, Appl. Phys. Lett. 77, 904 (2000).
11. B. W. D'Andrade, R. J. Holmes, and S. R. Forrest, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 16, 624 (2004).
12. G. E. Jabbour, J.-F. Wang, and N. Peyghambarian, Appl. Phys. Lett. 80, 2026 (2002).
13. D. F. O'Brien, M. A. Baldo, M. E. Thompson, and S. R. Forrest, Appl. Phys. Lett. 74, 442 (1999).
14. W. Riess, H. Riel, T. Beierlein, W. Bruiting, P. Muller, and P. F. Seidler, IBM J. Res. Dev. 45, 77 (2001).
15. A. G. Muckl, S. Berleb, W. Bruiting, and M. Schwoerer, Synth. Met. 111-112, 91 (2000).
16. L. Hassine, H. Bouchriha, J. Roussel, and J.-L. Fave, J. Appl. Phys. 91, 5170 (2002).
17. M. Ichikawa, J. Amagai, Y. Horiba, T. Koyama, and Y. Taniguchi, J. Appl. Phys. 94, 7796 (2003).
18. M. A. Baldo and S. R. Forrest, Phys. Rev. B 62, 10958 (2000).
19. C. J. Lee, R. B. Pode, D. G. Moon, J. I. Man, N. H. Park, S. H. Baik, and S. S. Ju, Phys. Status Solidi A 201, 1022 (2004).
20. C. Adachi, M. A. Baldo, S. R. Forrest, S. Lamansky, M. E. Thompson, and R. C. Kong, Appl. Phys. Lett. 78, 1622 (2001).
21. F.-C. Chen, Y. Yang, M. E. Thompson, and J. Kido, Appl. Phys. Lett. 80, 2308 (2002).
22. T. C. Wong, J. Kovac, C. S. Lee, L. S. Hung, and S. T. Lee, Chem. Phys. Lett. 334, 61 (2001).
23. H. Kajii, T. Tsukagawa, T. Taneda, K. Yoshino, M. Ozaki, A. Fujii, M. Hikita, S. Tomaru, S. Imamura, H. Takenaka, J. Kobayashi, F. Yamamoto, and Y. Ohmori, Jpn. J. Appl. Phys., Part I 41, 2746 (2002).