Photoprocessable polymer opals

Chemistry of Materials

Volumn 16, Issue 25, 2004, Pages 5286-5292

  Lange, Birger ^a   Zentel, Rudolf ^a   Ober, Christopher ^b   Marder, Seth ^c  

^a JOHANNES GUTENBERG UNIVERSITY   (Germany)

^b School of Operations Research and Industrial Engineering   (United States)

^c GEORGIA INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COLLOIDS; CRYSTALLIZATION; LITHOGRAPHY; SELF ASSEMBLY; SYNTHESIS (CHEMICAL); ULTRAVIOLET RADIATION;

PERIODIC STRUCTURES; PHOTOACID GENERATORS;

POLYMERS;

ACID; BASE; METHACRYLIC ACID DERIVATIVE; POLYMER;

ARTICLE; CHEMICAL STRUCTURE; COLLOID; CRYSTAL STRUCTURE; CRYSTALLIZATION; FILM; GENERATOR; HEATING; PHOTOCHEMISTRY; RADIATION EXPOSURE; SYNTHESIS; ULTRAVIOLET IRRADIATION;

EID: 10444232783     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm048834u     Document Type: Article

References (30)

1. Yablonovitch, E. Phys. Rev. Lett. 1987, 58, 2059.
2. John, S. Phys. Rev. Lett. 1987, 58, 2486.
3. Busch, K.; Lölkes, S.; Wehrspohn, R. B.; Föll, H. Photonic Crystals; Wiley-VCH: New York, 2004.
4. Park, S.-H.; Gates, B.; Xia, Y. N. Adv. Mater. 1999, 11, 462.
5. Campbell, M.; Sharp, D. N.; Harrison, M. T.; Denning, R. G.; Turberfield, A. J. Nature 2000, 404, 53.
6. Cumpston, B. H.; Ananthavel, S. P.; Barlow, S.; Dyer, D. L.; Ehrlich, J. E.; Erskine, L. L.; Heikal, A. A.; Kuebler, S. M.; Lee, I.-Y. S.; McCord-Maughon, D.; Qin, J.; Röckel, H.; Rumi, M.; Wu, X.-L.; Marder, S. R.; Perry, J. W. Nature 1999, 398, 51.
7. Sun, H.-B.; Matsuo, S.; Misawa, H. Appl. Phys. Lett. 1999, 74, 786.
8. Joannopoulos, J. D.; Villeneuve, P. R.; Fan, S. Nature 1997, 386, 143.
9. Gu, Z.; Fujishima, A.; Sato, O. Chem. Mater. 2002, 14, 760.
10. Griesebock, B.; Egen, M.; Zentel, R. Chem. Mater. 2002, 14, 4023.
11. Astratov, V. N.; Bogomolov, V. M.; Kaplyanskii, A. A.; Prokofiev, A. V.; Samoilovich, L. A.; Samoilovich, S. M.; Vlasov, Y. A. Nuovo Cimento D 1995, 17, 1349.
12. Vlasov, Y. A.; Bo, X. Z.; Sturm, J. C.; Norris, D. J. Nature 2001, 414, 289.
13. Müller, M.; Zentel, R.; Maka, T.; Romanov, S. G.; Sotomayor Torres, C. M. Chem. Mater. 2000, 12, 2508.
14. Jiang, P.; Ostojic, G. N.; Narat, R.; Mittleman, D. M.; Colvin, V. L. Adv. Mater. 2001, 13, 389.
15. Egen, M.; Voss, R.; Griesebock, B.; Zentel, R.; Romanov, S. G.; Sotomayor Torres, C. M. Chem. Mater. 2003, 15, 3786.
16. Ferrand, P.; Egen, M.; Griesbock, B.; Ahopelto, J.; Müller, M.; Zentel, R.; Romanov, S. G.; Sotomayor Torres, C. M. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 2689.
17. Ye, Y. H.; Badilescu, S.; Truong, V. V.; Rochon, P.; Natasohn, A. Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 872.
18. Yang, S. M.; Ozin, G. A. Chem. Commun. 2000, 2507. Ozin, G. A.; Yang, S. M. Adv. Funct. Mater. 2001, 14, 605. Yang, S. M.; Miguez, H.; Ozin, G. A. Adv. Funct. Mater. 2002, 12, 425. Miguez, H.; Yang, S. M.; Ozin, G. A. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 2493.
19. Yang, S. M.; Ozin, G. A. Chem. Commun. 2000, 2507. Ozin, G. A.; Yang, S. M. Adv. Funct. Mater. 2001, 14, 605. Yang, S. M.; Miguez, H.; Ozin, G. A. Adv. Funct. Mater. 2002, 12, 425. Miguez, H.; Yang, S. M.; Ozin, G. A. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 2493.
20. Yang, S. M.; Ozin, G. A. Chem. Commun. 2000, 2507. Ozin, G. A.; Yang, S. M. Adv. Funct. Mater. 2001, 14, 605. Yang, S. M.; Miguez, H.; Ozin, G. A. Adv. Funct. Mater. 2002, 12, 425. Miguez, H.; Yang, S. M.; Ozin, G. A. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 2493.
21. Yang, S. M.; Ozin, G. A. Chem. Commun. 2000, 2507. Ozin, G. A.; Yang, S. M. Adv. Funct. Mater. 2001, 14, 605. Yang, S. M.; Miguez, H.; Ozin, G. A. Adv. Funct. Mater. 2002, 12, 425. Miguez, H.; Yang, S. M.; Ozin, G. A. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 2493.
22. Yin, Y.; Xia, Y. Adv. Mater. 2002, 14, 605.
23. Kumacheva, E.; Golding, R. K.; Allard, M.; Sargent, E. H. Adv. Mater. 2002, 14, 221.
24. Tétreault, N.; Agustín, M.; Míguez, H.; Rodríguez, I.; Ozin, G. A. Adv. Mater. 2004, 16, 346.
25. Ferrand, P.; Egen, M.; Zentel, R.; et al. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 5289.
26. Soane, D. S.; Martynenko, Z. Polymers in Microelectronics - Fundamentals and Applications; Elsevier: Amsterdam, 1989.
27. Thompson, L. F.; Willson, C. G.; Bowden, M. J. Introduction to Microlithography, 2nd ed.; American Chemical Society: Washington, DC, 1994.
28. Dhal, P. K.; Horner, M. G.; Ingwall, R. T.; Kolb, E. S.; Mehta, P. K.; Minns, R. A.; Schild, H. G.; Waldmann, D. A. U.S. Patent 5, 1998; Vol. 759, p 721.
29. Egen, M.; Zentel, R. Chem. Mater. 2002, 14, 2176.
30. Egen, M.; Zentel, R. Macromol. Chem. Phys. 2004, 205, 1479.