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Volumn 22, Issue 6, 1998, Pages 453-459

The Determination of Thermal Annealing Effect on the DOS Profile of a-Si:H Film

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EID: 0542398492     PISSN: 13000101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Article
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References (24)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.