Electrochemical Deposition of Organic Semiconductors: The Method, Mechanism, and Critical Deposition Parameters

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 148, Issue 11, 2001, Pages

  Diamant, Yishay ^a   Zaban, Arie ^a,b  

^a BAR ILAN UNIVERSITY   (Israel)

^b ELECTROCHEMICAL SOCIETY   (Israel)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0442277752     PISSN: 00134651     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.1405517     Document Type: Article

References (27)

1. G. Tamizhmani, J. P. Dodelet, R. Cote, and D. Gravel, Chem. Mater., 3, 1046 (1991).
2. N. R. Armstrong, J. Porphyr. Phthalocyanines, 4, 414 (2000).
3. M. Schneider, J. Hagen, D. Haarer, and K. Mullen, Adv. Mater., 12, 351 (2000).
4. M. Yamaguchi and T. Nagatomo, Thin Solid Films, 363, 21 (2000).
5. G. Gu, G. Parthasarathy, P. E. Burrows, P. Tian, I. G. Hill, A. Kahn, and S. R. Forrest, J. Appl. Phys., 86, 4067 (1999).
6. K. Y. Law, Chem. Rev., 93, 449 (1993).
7. J. Janata, Anal. Chem., 64, R196 (1992).
8. B. A. Gregg, Chem. Phys. Lett.. 258, 376 (1996).
9. C. Videlot, D. Fichou, and F. Garnier, J. Chim. Phys. Phys.-Chim. Biol. 95, 1335 (1998).
10. H. Yanagi, N. Tamura, S. Taira, H. Furuta, S. Douko, G. Schnurpfeil, and D. Wohrle, Mol. Cryst. Liq. Cryst. Sci. Technol., Sect. A, 267, 435 (1995).
11. S. R. Forrest, Chem. Soc., 97, 1793 (1997).
12. J. J. Dittmer, R. Lazzaroni, P. Leclere, P. Moretti, M. Granstrom, K. Petritsch, E. A. Marseglia, R. H. Friend, J. L. Bredas, H. Rost, and A. B. Holmes, Sol. Energy Mater. Sol. Cells, 61, 53 (2000).
13. M. Hiramoto, H. Fukusumi, and M. Yokohama, Appl. Phys. Lett., 61, 2580 (1992).
14. K. Petritsch, I. J. Dittmer, E. A. Marseglia, R. H. Friend, A. Lux, G. G. Rozenberg, S. C. Moratti, and A. B. Holmes, Sol. Energy Mater. Sol. Cells, 61, 63 (2000).
15. Y. Yuan, B. A. Gregg, and M. F. Lawrence, J. Mater. Res., 15, 2494 (2000).
16. A. M. van de Craats, J. M. Warman, P. Schlichting, U. Rohr, Y. Geerts, and K. Mullen, Synth. Met., 102, 1550 (1999).
17. G. Horowitz, F. Kouki, P. Spearman, D. Fichou, C. Nogues, X. Pan, and F. Garnier, Adv. Mater., 8, 242 (1996).
18. S. R. Forrest, L. Y. Leu, F. F. So, and W. Y. Yoon, J. Appl. Phys., 66, 5908 (1989).
19. B. O'Regan and M. Gratzel, Nature (London), 353, 737 (1991).
20. S. K. Lee, Y. B. Zu, A. Herrmann, Y. Geerts, K. Mullen, and A. J. Bard, J. Am. Chem. Soc., 121, 3513 (1999).
21. B. A. Gregg and R. A. Cormier, J. Phys. Chem. B, 102, 9952 (1998).
22. A. J. Makinen, A. R. Melnyk, S. Schoemann, R. L. Headrick, and Y. L. Gao, Phys. Rev. B, 60, 14683 (1999).
23. J. C. Conboy, E. J. C. Olson, D. M. Adams, J. Kerimo, A. Zaban, B. A. Gregg, and P. F. Barbara, J. Phys. Chem. B, 102, 4516 (1998).
24. A. Zaban and Y. Diamant, J. Phys. Chem. B, 104, 10043 (2000).
25. B. A. Gregg, J. Phys. Chem. B, 100, 852 (1996).
26. W. Lu, J. P. Gao, Z. Y. Wang, Y. Qi, G. G. Sicripante, J. D. Duff, and P. R. Sundararajan, Macromolecules, 32, 8880 (1999).
27. J. R. Ostrick, A. Dodabalapur, L. Torsi, A. J. Lovinger, H. W. Kwock, T. M. Miller, M. Galvin, M. Berggren, and H. E. Katz, J. Appl. Phys., 81, 6804 (1997).