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Volumn 9, Issue 2, 1997, Pages 101-104

Low angle and low energy ion beam etching for TEM sample preparation

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EID: 0346341041     PISSN: 10407286     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Article
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.