Electrochemical Digital Etching: Atomic Level Studies of CdTe(100)

ACS Symposium Series

Volumn 656, Issue , 1997, Pages 115-125

  Sorenson, T A ^a   Wilmer, B K ^a   Stickney, J L ^a  

^a UNIVERSITY OF GEORGIA   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0345880017     PISSN: 00976156     EISSN: None     Source Type: Book Series    
DOI: 10.1021/bk-1997-0656.ch009     Document Type: Article

References (35)

1. Villegas, I.; Stickney, J. L. J. Electrochem. Soc. 1991, 138, 1310.
2. Solzbach, U.; Richter, H. J. Surface Sci. 1980, 97, 191.
3. Pearton, S. J.; Ren, F. J. Vac. Sci. Technol. B 1993, 11, 15.
4. Neswal, M.; Gresslehner, K. H.; Lischka, K.; Lubke, K. J. Vac. Sci. Technol. B 1993, 11, 551.
5. Lu, Y. C.; Route, R. K.; Elwell, D.; Feigelson, R. S. J. Vac. Sci. Technol. A 1985, 3, 264.
6. Iranzo Marin, F.; Debeimme-Chouvy, C.; Vigneron, J.; Triboulet, R.; Etcheberry, A. Jpn. J. Appl. Phys. 1995, 34, L1344.
7. Iranzo Marin, F.; Vigneron, J.; Lincot, D.; Etcheberry, A.; Debeimme-Chouvy, C. J. Phys. Chem. 1995, 99, 15198.
8. Ricco, A. J.; White, H. S., Wrighton, M. S. J. Vac. Sci. Technol. A 1984, 2, 910.
9. Lincot, D.; Vedel, J. J. Electroanal. Chem. 1984, 175, 207.
10. Lincot, D.; Vedel, J. J. Cryst. Growth 1985, 72, 526.
11. Lincot. D.; Vedel, J. J. Electroanal. Chem. 1987, 220, 179.
12. Tanaka, S.; Bruce, J. A.; Wrighton, M. S. J. Phys. Chem. 1981, 85, 3778.
13. Tenne, R; Marcu, V.; Yellin, N. Appl. Phys. Lett. 1984, 45, 1219.
14. Muller, N.; Tenne. R. Appl. Phys. Lett. 1981, 39, 283.
15. Marcu, V.; Tenne, R.; Yellin, N. Appl. Surf. Sci. 1987, 28, 429.
16. Horilke, Y.; Tanaka, T.; Nakano, S.; Iseda, H.; Sakaue, A.; Shindo, S.; Miyazaki, S.; Hirose, M. J. Vac. Sci. Technol. A 1990, 8, 1844.
17. Ishii, M.; Meguro, T.; Gamo, K.; Sugano, T.; Aoyagi, Y. Jpn. J. Appl. Phys. 1993, 32, 6178.
18. Bourne, O. L.; Hart, D.; Rayner, D. M.; Hackett, P. A. J. Vac. Sci. Technol. B 1993, 11, 556.
19. Takatani, S.; Kikawa, T. Appl. Phys. Lett. 1994, 65, 2585.
20. Meguro, T.; Hamagaki, M.; Modaressi, S.; Hara, T.; Aoyagi, Y.; Ishii, M.; Yamamoto, Y. Appl. Phys. Lett. 1990, 56, 1556.
21. Luviksson, A.; Xu, M.; Martin, R. M. Surface Sci. 1992, 277, 282.
22. Aoyagi, Y.; Shinmura, K.; Kawasaki, K.; Nakamoto, I; Gamo, K.; Namba, S. Thin Solid Films 1993, 225, 120.
23. Lei, Q. P.; Stickney, J. L. Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 1992, 237, 335.
24. Willmer, B. K. B.; ECALE Processing of Compound Semiconductors and Scanning Probe Microscopy of Mg(0001) Masters Dissertation, University of Georgia, 1995, pp. 1-50.
25. Kohl, P. A.; Harris, D. B.; Winnick, J. J. Electrochem. Soc. 1990, 137, 3315.
26. Soriaga, M. P.; Harrington, D. A.; Stickney, J. L.; Wieckowski, A. In Ultrahigh-Vacuum Surface Analytical Methods in Electrochemical Studies of Single Crystal Surfaces; Conway, B. E.; Bockris, J. O'M.; White, R. E., Eds. Modern Aspects of Electrochemistry, Number 28; Pluenum Press, New York, 1995; pp.1-60.
27. Suggs, D. W.; Stickney, J. L. Surface Sci. 1993, 290, 362.
28. Veron, M. B.; Sauvage-Simkin, M.; Etgens, V.H.; Tatarenko, S.; Van Der Vegt, H. A.; Ferrer, S. Appl. Phys. Lett. 1995, 67, 3957.
29. Tatarenko, S.; Bassani, F.; Klein, J. C.; Saminadayar, K.; Cibert, J.; Etgens, V. H. J. Vac. Sci. Technol. A 1994, 12, 140.
30. Tatarenko, S.; Daudin, B.; Brun, D.; Etgens, V. H.; Veron, M. B. Phys. Rev. B 1994, 50, 18479.
31. Wu. Y. S.; Becker, C. R.; Waag, A.; Bicknell-Tassius, R. N.; Landwehr, G. J. Appl. Phys. 1991, 69, 268.
32. Wu, Y. S.; Becker, C. R.; Waag, A.; Kraus, M. M.; Bicknell-Tassius, R. N.; Landwehr, G. Phys. Rev. B 1991, 44, 8904.
33. Seehofer, L.; Etgens, V. H., Falkenberg, G.; Veron, M. B., Brun, D., Daudin, B.; Taterenko, S.; Johnson, R. L. Surface Sci. 1996, L55.
34. Seehofer, L.; Falkenberg, G.; Johnson, R. L.; Etgens, V. H.; Tatarenko, S.; Brun, D.; Daudlin, B. Appl. Phys. Lett. 1995, 67, 1680.
35. Gregory, B. W.; Suggs, D. W.; Stickney, J. L. J. Electrochem. Soc. 1991, 138, 1279.