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Volumn 44, Issue 3, 2001, Pages 151-154

An ion-beam apparatus for the formation of oxide films by the oxygen ion sputtering technique

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FILMS; ION SOURCES; OPERATIONS RESEARCH; OXIDES; OXYGEN; SPUTTERING;

EID: 0345550543     PISSN: 00328162     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Article
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.