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Volumn 140, Issue 2, 1993, Pages 421-427

In‐situ X‐ray measurements of relaxation processes in Si1‐xGex layers on si substrate

(1)  Zaumseil, P a  

a IHP   (Germany)

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EID: 0344180000     PISSN: 00318965     EISSN: 1521396X     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/pssa.2211400212     Document Type: Article
Times cited : (14)

References (13)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.