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Volumn 70, Issue 14, 1997, Pages 1814-1816

Pure silicon plasma in a helicon plasma deposition system

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EID: 0343930755     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.118699     Document Type: Article
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    • International Patent Application No. PCT/AU95/00047 (1995)
    • International Patent Application No. PCT/AU95/00047 (1995).


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.