Silicidation process of Ti/TiNx/Si structures

Journal of Applied Physics

Volumn 81, Issue 2, 1997, Pages 781-785

  Perez Rigueiro J ^a   Jimenez C ^a   Perez Casero R ^a   Martinez Duart J M ^a  

^a UNIVERSIDAD AUTÓNOMA DE MADRID   (Spain)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0343232884     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.364140     Document Type: Article

References (15)

1. M. Graef, Appl. Surf. Sci. 73, 1 (1993).
2. T. Yoshida, S. Ogawa, S. Okuda, T. Kouzaki, and K. Tsukamoto, J. Electrochem. Soc. 137, 1914 (1990).
3. C. Y. Ting and M. Wittmer, Thin Solid Films 96, 327 (1982).
4. M.-A. Nicolet, Thin Solid Films 52, 415 (1978).
5. C. Jiménez, M. Fernández, J. M. Albella, and J. M. Martínez-Duart, Appl. Surf. Sci. 70/71, 475 (1993).
6. L. R. Doolittle, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 9, 344 (1985).
7. J. Pérez-Rigueiro, M. Fernández, C. Jiménez, R. Pérez-Casero, and J. M. Martínez-Duart, Mater. Sci. Technol. 11, 1210 (1995).
8. J. Pérez-Rigueiro, C. Jiménez, R. Pérez-Casero, and J. M. Martínez-Duart. Thin Solid Films 246, 172 (1994).
9. L. S. Hung, J. Gyulai, J. W. Mayer, S. S. Lan, and M.-A. Nicolet, J. Appl. Phys. 54, 5076 (1983).
10. C. A. Pico and M. G. Lagally, J. Appl. Phys. 64, 4957 (1988).
11. J. H. Werner and H. H. Güttler, J. Appl. Phys. 69, 1522 (1991).
12. J. P. Sullivan, R. T. Tung, M. R. Pinto, and W. R. Graham, J. Appl. Phys. 70, 7403 (1991).
13. H. Jeon, C. A. Sukow, J. W. Honeycutt, G. A. Rozgonyi, and R. J. Nemanich, J. Appl. Phys. 71, 4269 (1992).
14. M. H. Wang and L. J. Chen, J. Appl. Phys. 71, 5918 (1992).
15. J. Pérez-Rigueiro, C. Jiménez, P. Herrero, R. Pérez-Casero, and J. M. Martínez-Duart (unpublished).