La densidad de estados y el coeficiente de absorción en películas de silicio amorfo hidrogenado intrínseco

Revista Mexicana de Fisica

Volumn 42, Issue 5, 1996, Pages 757-775

  García, Alejandro Ávila ^a  

^a DEPARTAMENTO DE FÍSICA   (Mexico)

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EID: 0342312178     PISSN: 0035001X     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Article

References (14)

1. W.B. Jackson, Solid State Comm. 44 (1982) 477.
2. L.A. Balagurov, E.M. Omel'yanovskii, T.N. Pinsker, M.N. Starikov, Sov. Phys. Semicond. 19 (1) (1985) 28.
3. A. Avila, Reporte interno No. 101, Serie Amarilla, CINVESTAV del I.P.N., Departamento de Ingeniería Eléctrica, (1990).
4. N.F. Mott, E.A. Davis, Electronic processes in non-crystalline materials, 2nd. edition, Oxford University Press (1979).
5. J. Tauc, Amorphous and Liquid Semiconductors, ed. by J. Tauc, Plenum, New York (1974).
6. A. Madan, M.P. Shaw, The physics and applications of amorphous semiconductors, Academic Press (1988).
7. N.M. Amer, W.B. Jackson, Semiconductors and Semimetals, 21B, ed. by J. Pankove, Academic Press (1984).
8. R. Swanepoel, J. Phys. E: Sci. Instrum., 16 (1983) 1214.
9. J.D. Cohen, D.V. Lang, J.P. Harbison, J.C. Bean, Solar Cells, 2 (1980) 331.
10. S. Lee, J.K. Arch, S.J. Fonash, C.R. Wronski, 21th IEEE Photovoltaic specialists conference, II (1990).
11. R.S. Crandall, H.M. Branz., 21th IEEE Photovoltaic specialists conference, II (1990).
12. S. Yamasaki, H. Oheda, A. Matsuda, H. Okushi, K. Tanaka, Jpn. J. Appl. Phys. 20 (1981) L539.
13. G. Cody, Semiconductors and Semimetals, 21B, Ed by J. Pankove, Academic Press (1984).
14. S.Z. Weisz, J. Penalbert, A. Many, S. Trokman, Y. Goldstein, J. Phys. Chem. Solids 51 (1980) 1067.