Low temperature decomposition of NO on ordered alumina films

Chemical Physics Letters

Volumn 381, Issue 3-4, 2003, Pages 298-305

  Schauermann, S ^a   Johanek V ^a   Laurin, M ^a   Libuda, J ^a   Freund, H J ^a  

^a FRITZ HABER INSTITUT DER MAX PLANCK GESELLSCHAFT   (Germany)

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ALUMINUM OXIDE; NITRIC OXIDE; PALLADIUM;

ABSORPTION SPECTROPHOTOMETRY; ARTICLE; CATALYST; DECOMPOSITION; EXPERIMENTAL TEST; FILM; INFRARED RADIATION; LOW TEMPERATURE; MOLECULAR DYNAMICS; REACTION TIME; STRUCTURE ANALYSIS; SURFACE PROPERTY;

EID: 0242540936     PISSN: 00092614     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/j.cplett.2003.09.101     Document Type: Article

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