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Volumn 53, Issue 24, 1996, Pages R16144-R16147

Etching of double-height-stepped Si(100)-2×1: Steps and their interactions

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EID: 0142071334     PISSN: 10980121     EISSN: 1550235X     Source Type: Journal    
DOI: 10.1103/PhysRevB.53.R16144     Document Type: Article
Times cited : (2)

References (20)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.