-
2
-
-
0000876769
-
-
W. P. Hu, M. Matsumura, M. Z. Wang, and L. P. Jin, Appl. Phys. Lett. 77, 4271 (2000).
-
(2000)
Appl. Phys. Lett.
, vol.77
, pp. 4271
-
-
Hu, W.P.1
Matsumura, M.2
Wang, M.Z.3
Jin, L.P.4
-
3
-
-
0002503744
-
-
C. J. Liang, D. Zhao, Z. R. Hong, D. X. Zhao, X. Y. Liu, W. L. Li, J. B. Peng, J. Q. Yu, C. S. Lee, and S. T. Lee, Appl. Phys. Lett. 76, 67 (2000).
-
(2000)
Appl. Phys. Lett.
, vol.76
, pp. 67
-
-
Liang, C.J.1
Zhao, D.2
Hong, Z.R.3
Zhao, D.X.4
Liu, X.Y.5
Li, W.L.6
Peng, J.B.7
Yu, J.Q.8
Lee, C.S.9
Lee, S.T.10
-
4
-
-
79955999976
-
-
P.-P. Sun, J.-P. Duan, H.-T. Shih, and C.-H. Cheng, Appl. Phys. Lett. 81, 792 (2002).
-
(2002)
Appl. Phys. Lett.
, vol.81
, pp. 792
-
-
Sun, P.-P.1
Duan, J.-P.2
Shih, H.-T.3
Cheng, C.-H.4
-
5
-
-
0028529424
-
-
J. Kido, H. Hayase, K. Hongawa, and K. Nagal, Appl. Phys. Lett. 65, 2124 (1994).
-
(1994)
Appl. Phys. Lett.
, vol.65
, pp. 2124
-
-
Kido, J.1
Hayase, H.2
Hongawa, K.3
Nagal, K.4
-
6
-
-
0029291035
-
-
T. Sano, M. Fujita, T. Fujii, and Y. Hamada, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 34, 1883 (1995).
-
(1995)
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
, vol.34
, pp. 1883
-
-
Sano, T.1
Fujita, M.2
Fujii, T.3
Hamada, Y.4
-
7
-
-
0035890792
-
-
H. Heil, J. Steiger, R. Schmechel, and H. von Seggern, J. Appl. Phys. 90, 5357 (2001).
-
(2001)
J. Appl. Phys.
, vol.90
, pp. 5357
-
-
Heil, H.1
Steiger, J.2
Schmechel, R.3
Von Seggern, H.4
-
8
-
-
0035100074
-
-
L. Huang, K. Z. Wang, C. H. Huang, F. Y. Li, and Y. Y. Huang, J. Mater. Chem. 11, 790 (2001).
-
(2001)
J. Mater. Chem.
, vol.11
, pp. 790
-
-
Huang, L.1
Wang, K.Z.2
Huang, C.H.3
Li, F.Y.4
Huang, Y.Y.5
-
9
-
-
0032074368
-
-
X. C. Gao, H. Cao, C. H. Huang, B. G. Li, and S. Umitani, Appl. Phys. Lett. 72, 2217 (1998).
-
(1998)
Appl. Phys. Lett.
, vol.72
, pp. 2217
-
-
Gao, X.C.1
Cao, H.2
Huang, C.H.3
Li, B.G.4
Umitani, S.5
-
10
-
-
0033883134
-
-
C. J. Liang, Z. R. Hong, X. Y. Liu, D. X. Zhao, D. Zhao, W. L. Li, J. B. Peng, J. Q. Yu, C. S. Lee, and S. T. Lee, Thin Solid Films 359, 14 (2000).
-
(2000)
Thin Solid Films
, vol.359
, pp. 14
-
-
Liang, C.J.1
Hong, Z.R.2
Liu, X.Y.3
Zhao, D.X.4
Zhao, D.5
Li, W.L.6
Peng, J.B.7
Yu, J.Q.8
Lee, C.S.9
Lee, S.T.10
-
11
-
-
0034820037
-
-
J. F. Wang, R. Y. Wang, J. Yang, and Z. P. Zheng, J. Am. Chem. Soc. 123, 6179 (2001).
-
(2001)
J. Am. Chem. Soc.
, vol.123
, pp. 6179
-
-
Wang, J.F.1
Wang, R.Y.2
Yang, J.3
Zheng, Z.P.4
-
13
-
-
0032622132
-
-
M. A. Baldo, S. Lamaansky, P. E. Burrows, M. E. Thompso, and S. R. Forrest, Appl. Phys. Lett. 75, 4 (1999).
-
(1999)
Appl. Phys. Lett.
, vol.75
, pp. 4
-
-
Baldo, M.A.1
Lamaansky, S.2
Burrows, P.E.3
Thompso, M.E.4
Forrest, S.R.5
-
15
-
-
36449007774
-
-
C. Hosokawa, H. Tokailin, H. Higashi, and T. Kusumoto, Appl. Phys. Lett. 60, 1220 (1992)
-
(1992)
Appl. Phys. Lett.
, vol.60
, pp. 1220
-
-
Hosokawa, C.1
Tokailin, H.2
Higashi, H.3
Kusumoto, T.4
|