Field electron emission from nanostructured heterogeneous HfN xOy films

Applied Physics Letters

Volumn 83, Issue 8, 2003, Pages 1626-1628

  Liao, M Y ^a   Gotoh, Y ^a   Tsuji, H ^a   Ishikawa, J ^a  

^a KYOTO UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DIELECTRIC MATERIALS; ELECTRIC FIELD EFFECTS; ELECTRON EMISSION; HAFNIUM COMPOUNDS; MAGNETRON SPUTTERING; SILICON;

CARBON FILMS;

NANOSTRUCTURED MATERIALS;

EID: 0043283905     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1604944     Document Type: Article

References (16)

1. M. W. Geis, N. N. Efremow, K. E. Krohn, J. C. Twichell, T. M. Lyszczarz, R. Kalish, J. A. Greer, and M. D. Tabat, Nature (London) 393, 431 (1998).
2. V. P. Mammana, T. E. A. Santos, A. P. Mammana, V. Baranauskas, H. J. Ceragioli, and A. C. Peterlevitz, Appl. Phys. Lett. 81, 3470 (2002).
3. A. Ilie, A. C. Ferrari, T. Yagi, and J. Robertson, Appl. Phys. Lett. 76, 2627 (2000).
4. N. A. Fox, W. N. Wang, T. J. Davis, J. W. Steeds, and P. W. May, Appl. Phys. Lett. 71, 2337 (1997).
5. J. D. Carey, R. D. Forrest, R. U. Akahan, and S. R. P. Silva, Appl. Phys. Lett. 77, 2006 (2000).
6. R. G. Forbes, Ultramicroscopy 89, 7 (2001).
7. R. G. Forbes, Solid-State Electron. 45, 779 (2001).
8. S. Bajic, M. S. Mousa, and R. V. Latham, J. Phys. (Paris) 50, C879 (1989).
9. H. O. Pierson, Hand Book of Refractory Carbide and Nitride (Noyes, Park Ridge, NJ, 1996).
10. P. D. Kirsch, C. S. Kang, J. Lozano, J. C. Lee, and J. G. Ekerdt, J. Appl. Phys. 91, 4353 (2002).
11. B. R. Chalamala, R. H. Reuss, K. A. Dean, E. Sosa, and D. E. Golden, J. Appl. Phys. 91, 6141 (2002).
12. S. Kang, H. J. Cho, K. Onishi, R. Nieh, R. Choi, S. Gopalan, S. Krishnan, J. H. Han, and J. C. Lee, Appl. Phys. Lett. 81, 2593 (2002).
13. Y. Gotoh, T. Kondo, M. Nagao, H. Tsuji, J. Ishikawa, K. Hayashi, and K. Kobashi, J. Vac. Sci. Technol. B 18, 1081 (2000).
14. J. D. Carey, R. D. Forrest, and S. R. P. Silva, Appl. Phys. Lett. 78, 2339 (2001).
15. A. T. Sower, J. A. Christman, M. D. Bremser, B. L. Ward, R. F. Davis, and R. J. Nemanich, Appl. Phys. Lett. 71, 2289 (1997).
16. Z. Wang, Z. Peng, K. Lu, and W. Wen, Appl. Phys. Lett. 82, 1796 (2003).