Metastable chlorine ion temperature and drift velocity in an inductively coupled plasma

Journal of Applied Physics

Volumn 80, Issue 6, 1996, Pages 3215-3220

  Hebner, G A ^a  

^a SANDIA NATIONAL LABORATORIES   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0043057146     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.363262     Document Type: Article

References (25)

1. J. Hopwood, Plasma Sources Sci. Technol. 1, 109 (1992).
2. J. Hopwood, Appl. Phys. Lett. 62, 940 (1993).
3. U. Kortshagen and M. Zethoff, Plasma Sources Sci. Technol. 4, 541 (1995).
4. J. W. Woodworth, M. E. Riley, D. C. Meister, B. P. Aragon, M. S. Le, and H. H. Sawin, J. Appl. Phys. 80, 1304 (1996).
5. J. A. O'Neill, M. S. Barnes, and J. H. Keller, J. Appl. Phys. 73, 1621 (1993).
6. G. A. Hebner, J. Appl. Phys (in press).
7. K. U. Riemann, Phys. Fluids 24, 2163 (1981).
8. M. E. Riley. Sandia National Laboratories Report SAND95-0775.
9. M. M. Turner, Phys. Rev. Lett. 71, 1844 (1993).
10. R. A. Stewart, P. Vitello, and D. B. Graves, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 478 (1974).
11. R. J. Hokstra and M. J. Kushner, J. Appl. Phys. 79, 2275 (1996).
12. R. A. Stewart, P. Vitello, D. B. Graves, E. F. Jaeger, and L. A. Berry, Plasma Sources Sci. Technol. 4, 36 (1995).
13. V. Vahedi, M. A. Lieberman, G. DiPeso, T. D. Rognilien, and D. Hewett, J. Appl. Phys. 78, 1 (1995).
14. E. A. Den Hartog, H. Persing, and R. C. Woods, Appl. Phys. Lett. 57, 661 (1990).
15. K. P. Giapis, N. Sadeghi, J. Margot, R. A. Gottscho, and T. C. J. Lee, J. Appl. Phys. 73, 7188 (1993)
16. T. Nakano, N. Sadeghi, D. J. Trevor, R. A. Gottscho, and R. W. Boswell, J. Appl. Phys. 72, 3384 (1992).
17. N. Sadeghi, T. Nakano, D. J. Trevor, and R. A. Gottscho, J. Appl. Phys. 70, 2552 (1991).
18. B. K. McMillin and M. R. Zachariah, J. Appl. Phys. 79, 77 (1996).
19. J. S. McKillop, J. C. Forster, and W. M. Holber, Appl. Phys. Lett. 55, 30 (1989).
20. D. V. Tsu, R. T. Young, S. R. Ovhinsky, C. C. Klepper, and L. A. Berry, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 935 (1995).
21. P. A. Miller, G. A. Hebner, K. E. Greenberg, P. D. Pochan, and B. P. Aragon, J. Res. Natl. Int. Standard. Technol. 100, 427 (1995).
22. P. J. Hargis, Jr., K. E. Greenberg, P. A. Miller, J. B. Gerardo, J. R. Torczynski, M. E. Riley, G. A. Hebner, J. R. Roberts, J. K. Olthoff, J. R. Whetstone, R. J. Van Brunt, M. A. Sobolewski, H. M. Anderson, M. P. Splichal, J. L. Mock, P. Bletzinger, A. Garscadden, R. A. Gottscho, G. Selwyn, M. Dalvie, J. E. Heidenreich, J. W. Butterbaugh, M. L. Brake, M. L. Passow, J. Pender, A. Lujan, M. E. Elta, D. B. Graves, H. H. Sawin, M. J. Kushner, J. T. Verdeyen, R. Horwath, and T. R. Turner, Rev. Sci. Instrum. 65, 140 (1994).
23. G. A. Hebner, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 2158 (1996).
24. A. Eichhorn, M. Elbel, W. Kamke, R. Quad, and J. Bauche, Z. Phys. A 305, 39 (1982).
25. F. Chatain, J. Derouard, and N. Sadeghi, in 48th Gaseous Electronics Conference, Berkeley CA. October 9-13, 1995, paper HB-3.