Improvement in low energy ion-induced damage with a low temperature GaAs capping layer

Applied Physics Letters

Volumn 69, Issue 12, 1996, Pages 1728-1730

  Chen, Ching Hui ^a   Hu, Evelyn L ^a   Mishra, Umesh K ^a   Ibbetson, James P ^a   Wu, Xuehua ^a   Speck, Jim S ^a  

^a University of California   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0042532956     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.118011     Document Type: Article

References (14)

1. H. F. Wong, D. L. Green, T. Y. Liu, M. Bellis, P. O. Holtz, E. L. Hu, P. M. Petroff, and J. L. Merz, J. Vac. Sci. Technol. B 6, 1906 (1988).
2. C.-H. Chen, D. L. Green, and E. L. Hu, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2355 (1995).
3. D. L. Green, E. L. Hu, and N. G. Stoffel, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 3311 (1994).
4. S. Salimian, C. Yuen, C. Shih, and C. B. Cooper, J. Vac. Sci. Technol. B 9, 114 (1991).
5. M. Rahman, M. A. Foad, S. Hicks, M. C. Holland, and C. D. W. Wilkinson, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 279, 775 (1993).
6. N. G. Stoffel, S. A. Schwarz, M. A. A. Pudensi, K. Kash, L. T. Florez, J. P. Harbison, and B. J. Wilkens, Appl. Phys. Lett. 60, 1603 (1992).
7. N. G. Stoffel, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 651 (1992).
8. H. Nakanishi, K. Wada, and W. Walukiewicz, J. Appl. Phys. 78, 5103 (1995).
9. L.-Y. Yin, Y. Hwang, J. H. Lee, R. M. Kolbas, R. J. Trew, and U. K. Mishra, IEEE Electron Device Lett. 11, 561 (1990).
10. J. A. Skidmore, L. A. Coldren, J. L. Merz, E. L. Hu, and K. Asakawa, J. Vac. Sci. Technol. B 6, 1885 (1988).
11. J. P. Ibbetson, J. S. Speck, A. C. Gossard, and U. K. Mishra, Appl. Phys. Lett. 62, 169 (1993).
12. D. C. Look, Thin Solid Films 231, 61 (1993).
13. L. C. Feldman, J. W. Mayer, and S. T. Picraux, Materials Analysis by Ion Channeling (Academic, New York, 1989), Chap. 4.
14. K. M. Yu, M. Kaminska, and Z. Liliental-Weber, J. Appl. Phys. 72, 2850 (1992).