Effect of Zr concentration on the microstructure of Al and the magnetoresistance properties of the magnetic tunnel junction with a Zr-alloyed Al-oxide barrier

Applied Physics Letters

Volumn 83, Issue 2, 2003, Pages 317-319

  Lee, Seong Rae ^a   Choi, Chul Min ^a   Kim, Young Keun ^a  

^a Korea University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALUMINUM ALLOYS; MAGNETORESISTANCE; MICROSTRUCTURE; OXIDATION; POLYCRYSTALLINE MATERIALS; TUNNEL JUNCTIONS;

MAGNETIC TUNNEL JUNCTIONS (MTJ);

THIN FILMS;

EID: 0042268044     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1592312     Document Type: Article

References (23)

1. J. S. Moodera, L. R. Kinder, T. M. Wong, and R. Meservey, Phys. Rev. Lett. 74, 3273 (1995).
2. T. Miyazaki and N. Tezuka, J. Magn. Magn. Mater. 139, L231 (1995).
3. H. Boeve, E. Girgis, J. Schelten, J. De Boeck, and G. Borghs, Appl. Phys. Lett. 76, 1048 (2000).
4. K. S. Yoon, J. H. Park, J. H. Choi, J. Y. Yang, C. H. Lee, C. O. Kim, J. P. Hong, and T. W. Kang, Appl. Phys. Lett. 79, 1160 (2001).
5. Z. Li, C. de Groot, and J. H. Moodera, Appl. Phys. Lett. 77, 3630 (2000).
6. C. L. Platt, B. Dieny, and A. E. Berkowitz, Appl. Phys. Lett. 69, 2291 (1996); J. Appl. Phys. 81, 5523 (1997).
7. C. L. Platt, B. Dieny, and A. E. Berkowitz, Appl. Phys. Lett. 69, 2291 (1996); J. Appl. Phys. 81, 5523 (1997).
8. M. Sharma, S. X. Wang, and J. H. Nickel, Phys. Rev. Lett. 82, 616 (1999); M. Sharma, J. H. Nickel, T. C. Anthony, and S. X. Wang, Appl. Phys. Lett. 77, 2219 (2000).
9. M. Sharma, S. X. Wang, and J. H. Nickel, Phys. Rev. Lett. 82, 616 (1999); M. Sharma, J. H. Nickel, T. C. Anthony, and S. X. Wang, Appl. Phys. Lett. 77, 2219 (2000).
10. J. Wang, P. P. Freitas, E. Snoeck, P. Wei, and J. C. Soares, Appl. Phys. Lett. 79, 4387 (2001).
11. T. Kiyomura, Y. Maruo, and M. Gomi, J. Appl. Phys. 88, 4768 (2000).
12. B. G. Park and T. D. Lee, Appl. Phys. Lett. 81, 2214 (2002).
13. J. Wang, P. P. Freitas, and E. Snoeck, Appl. Phys. Lett. 79, 4553 (2001).
14. P. Rottlander, M. Hehn, O. Lenoble, and A. Schuhl, Appl. Phys. Lett. 78, 3274 (2001).
15. M. F. Gillies, A. E. T. Kuiper, J. B. A. van Zon, and J. M. Sturm, Appl. Phys. Lett. 78, 3496 (2001).
16. N. Ryum, Acta Metall. 17, 269 (1969).
17. T. Ohashi and R. Ichikawa, Metall. Trans. 3, 2300 (1972).
18. K. S. Vecchio and D. B. Williams, Acta Metall. 35, 2959 (1987).
19. H. G. Cho, Y. K. Kim, and S. R. Lee, J. Appl. Phys. 91, 8581 (2002); IEEE Trans. Magn. 38, 2685 (2002); B. S. Chun, S. R. Lee, and Y. K. Kim, J. Appl. Phys. 93, 8361 (2003).
20. H. G. Cho, Y. K. Kim, and S. R. Lee, J. Appl. Phys. 91, 8581 (2002); IEEE Trans. Magn. 38, 2685 (2002); B. S. Chun, S. R. Lee, and Y. K. Kim, J. Appl. Phys. 93, 8361 (2003).
21. H. G. Cho, Y. K. Kim, and S. R. Lee, J. Appl. Phys. 91, 8581 (2002); IEEE Trans. Magn. 38, 2685 (2002); B. S. Chun, S. R. Lee, and Y. K. Kim, J. Appl. Phys. 93, 8361 (2003).
22. R. C. Sousa, J. J. Sun, V. Soares, P. P. Freitas, A. Kling, M. F. da Silva, and J. C. Soares, Appl. Phys. Lett. 73, 3288 (1998).
23. J. Zhang and R. M. White, J. Appl. Phys. 83, 6512 (1998).