Patterning accuracy estimation during stage acceleration in the electron beam direct writing system EX-8D

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 14, Issue 6, 1996, Pages 3985-3989

  Hattori, K ^a   Magoshi, S ^a   Ando, A ^a   Satoh, S ^a   Sunaoshi, H ^a   Suenaga, M ^a   Housai, H ^a   Hashimoto, S ^a   Wada, H ^a   Sugihara, K ^a  

^a TOSHIBA CORPORATION   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0040810981     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.588628     Document Type: Article

References (11)

1. D. R. Herriott, R. J. Collier, D. S. Alles, and J. W. Stafford, IEEE Trans. Electron. Devices ED-22, 385 (1975).
2. H. J. King, P. E. Merritt, O. W. Otto, F. S. Ozdemir, John Pasiecznik, A. M. Carroll, D. L. Cavan, W. Eches, L. H. Lin, L. Veneklasen, and J. C. Wiesner, J. Vac. Sci. Technol. B 3, 106 (1985).
3. M. Kawano, K. Mizuno, H. Yoda, Y. Sakitani, K. Andou, and N. Saitou, J. Vac. Sci. Technol. B 11, 2323 (1993).
4. H. Matsukura, T. Tsutaoka, and K. Nakajima, J. Vac. Sci. Technol. B 8, 1863 (1990).
5. H. A. Waggener, D. W. Peters, G. Chen, C. M. Rose, D. C. Fowlis, A. Chitayat, and J. Caracci, J. Vac. Sci. Technol. B 9, 3033 (1991).
6. H. Ohta, T. Matsuzaka, N. Saitou, K. Kawasaki, T. Kohno, and M. Hoga, Jpn. J. Appl. Phys. 32, 6044 (1993).
7. K. Hattori, R. Yoshikawa, H. Wada, H. Kusakabe, T. Yamaguchi, S. Magoshi, A. Miyagaki, S. Yamasaki, T. Takigawa, M. Kanoh, S. Nishimura, H. Housai, and S. Hashimoto, J. Vac. Sci. Technol. B 11, 2346 (1993).
8. K. Hattori, S. Magoshi, H. Sunaoshi, H. Wada, A. Ando, T. Yamaguchi, S. Mikami, S. Nishimura, H. Housai, S. Hashimoto, R. Yoshikawa, and T. Takigawa, Jpn. J. Appl. Phys. 33, 6966 (1994).
9. R. Yoshikawa, K. Hattori, H. Wada, S. Magoshi, H. Sunaoshi, A. Ando, T. Yamaguchi, S. Mikami, S. Nishimura, H. Housai, S. Hashimoto, and T. Takigawa, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2493 (1995).
10. K. Reimer, Ch. Ehrlich, C. Kohler, and W. Brunger, Microelectron. Eng. 23, 93 (1994).
11. F. Abboud, M. Gesley, D. Colby, K. Comendant, R. Dean, W. Eckes, D. McClure, H. Pearce-Percy, R. Prior, and S. Watson, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 2734 (1992).