Two-dimensional network of dislocations and nanocavities in hydrogen-implanted and two-step annealed silicon

Applied Physics Letters

Volumn 72, Issue 20, 1998, Pages 2544-2546

  Gao, Min ^a   Duan, X F ^a   Wang, Fenglian ^a   Li, Jianming ^b  

^a INSTITUTE OF PHYSICS   (China)

^b INSTITUTE OF SEMICONDUCTORS   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0040146845     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.121413     Document Type: Article

References (20)

1. C. C. Griffioen, J. H. Evans, P. C. De Jong, and A. Van Veen, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 27, 417 (1987).
2. D. J. Eaglesham, A. E. White, L. C. Feldman, N. Moriya, and D. C. Jacobson, Phys. Rev. Lett. 70, 1643 (1993).
3. R. Siegele, G. C. Weatherly, H. K. Haugen, K. J. Lockwood, and L. M. Howe, Appl. Phys. Lett. 66, 1319 (1995).
4. J. Wong-Leung, J. S. Williams, and E. Nygren, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 106, 424 (1995).
5. J. Wong-Leung, E. Nygren, and J. S. Williams, Appl. Phys. Lett. 67, 416 (1995).
6. S. M. Myers, D. M. Follstaedt, G. A. Petersen, C. H. Saeger, H. J. Stein, and W. R. Wampler, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 106, 379 (1995).
7. J. Wong-Leung, J. S. Williams, R. G. Elliman, E. Nygren, D. J. Eaglesham, D. C. Jacobson, and J. M. Poate, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 96, 253 (1995).
8. B. Mohadjeri, J. S. Williams, and J. Wong-Leung, Appl. Phys. Lett. 66, 1889 (1995).
9. D. M. Follstaedt, S. M. Myers, G. A. Petersen, and J. W. Medernach, J. Electron. Mater. 25, 151 (1996).
10. S. M. Myers and D. M. Follstaedt, J. Appl. Phys. 79, 1337 (1996).
11. M. Gao, X. F. Duan, J. Li, and F. Wang, J. Appl. Phys. 80, 4767 (1996).
12. P. F. P. Fichtner, J. R. Kaschny, R. A. Yankov, A. Mücklich, U. Kreissig, and W. Skorupa, Appl. Phys. Lett. 70, 732 (1997).
13. E. Chason, S. T. Picraux, J. M. Poate, J. O. Borland, M. I. Current, T. Diaz de la Rubia, D. J. Eaglesham, O. W. Holland, M. E. Law, C. W. Magee, J. W. Mayer, J. Melngailis, and A. F. Tasch, J. Appl. Phys. 81, 6513 (1997).
14. V. Raineri and S. U. Campisano, Appl. Phys. Lett. 69, 1783 (1996).
15. D. M. Follstaedt, S. M. Myers, and S. R. Lee, Appl. Phys. Lett. 69, 2059 (1996).
16. J. Li, K. W. Jones, J. H. Coleman, J. Yi, R. Wallace, and W. A. Anderson, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 396, 745 (1996).
17. J. W. Edington, Practical Electron Microscopy in Material Science (Van Nostrand-Reinhold, New York, 1976).
18. M. Tanaka, M. Terauchi, and T. Kaneyama, J. Electron. Mater. 40, 211 (1991).
19. R. F. Egerton, Electron Energy-Loss Spectroscopy in the Electron Microscope (Plenum, New York, 1986).
20. M. Itsumi, H. Akiya, T. Ueki, M. Tomita, and M. Yamawaki, J. Appl. Phys. 78, 5984 (1995).