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Volumn 108, Issue 1-2, 1996, Pages 81-84

Reduction of secondary defects in 50 keV P+-implanted Si(100) by MeV Si ion irradiation

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EID: 0040061838     PISSN: 0168583X     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/0168-583X(95)00935-3     Document Type: Article
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References (8)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.