Vakuum-UV-Photolyse von gasf̈rmigem Trichlormethan im Xenon-Excimer-Durchfluβphotoreaktor

Chemie-Ingenieur-Technik

Volumn 69, Issue 1, 1997, Pages 134-138

  Oppenländer, Thomas ^a  

^a FURTWANGEN UNIVERSITY   (Germany)

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EID: 0039776468     PISSN: 0009286X     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cite.330690126     Document Type: Article

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