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Volumn 79, Issue 6, 2001, Pages 845-847

Multilevel nanoimprint lithography with submicron alignment over 4 in. Si wafers

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EID: 0039189863     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1391400     Document Type: Article
Times cited : (66)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.