Specific features induced by the vaporation of solid organometallic compounds used as OMCVD precursors for deposition in the V-C-N chemical system;Problèmes spécifiques liés à la vaporisation des précurseurs organométalliques solides utilisés pour les dépôts dans le système V-C-N

Annales de Chimie: Science des Materiaux

Volumn 23, Issue 5-6, 1998, Pages 655-666

  Teyssandier, F ^a,g   Poirier, L ^b   Slifirski, J ^a   Valade, L ^c   Danjoy, C ^c   Reynes, A ^d   Jauberteau, J L ^e   Sibieude, F ^f  

^a CNRS   (France)

^b Nexter Munitions   (France)

^c LCC LABORATOIRE DE CHIMIE DE COORDINATION   (France)

^d CNRS ESA5071   (France)

^e UNIVERSITY OF LIMOGES   (France)

^f Centre National de la Recherche Scientifique   (France)

^g UNIVERSITÉ DE PERPIGNAN   (France)

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EID: 0038856984     PISSN: 01519107     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/s0151-9107(99)80014-2     Document Type: Article

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