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Volumn 16, Issue 4, 2003, Pages 591-594

Development of SSQ based 157nm photoresist

Author keywords

157 nm lithography; Resists; Siloxane; Silsesquioxane

Indexed keywords

MONOMER; POLYMER;

EID: 0038507106     PISSN: 09149244     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.2494/photopolymer.16.591     Document Type: Article
Times cited : (3)

References (5)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.