Three-dimensional self-consistent radiation transport model for the fluid simulation of plasma display panel cell

Journal of Applied Physics

Volumn 93, Issue 12, 2003, Pages 9516-9522

  Kim, H C ^a   Yang, S S ^a   Lee, J K ^a  

^a Pohang University of Science and Technology (POSTECH)   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COMPUTER SIMULATION; ENERGY EFFICIENCY; PHOSPHORS; RESONANCE;

PLASMA DISPLAY PANELS (PDP);

PLASMA DISPLAY DEVICES;

EID: 0037805719     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1577399     Document Type: Article

References (35)

1. A. F. Molisch and B. P. Oehry, Radiation Trapping in Atomic Vapours (Oxford, New York, 1998).
2. J. K. Lee and J. P. Verboncoeur, Plasma Display Panel in Low Temperature Plasma Physics edited by R. Hippler et al. (Wiley-VCH, Berlin, 2001), pp. 367-385.
3. A. Sobel, IEEE Trans. Plasma Sci. 19, 1032 (1991).
4. J. P. Bouef, J. Phys. D 36, R53 (2003).
5. K. Tachibana, N. Kosugi, and T. Sakai, Appl. Phys. Lett. 65, 935 (1994).
6. K. Tachibana, S. Feng, and T. Sakai, J. Appl. Phys. 88, 4967 (2000).
7. K. Tachibana, K. Mizokami, N. Kosugi, and T. Sakai, IEEE Trans. Plasma Sci. 31, 68 (2003).
8. J. H. Kim, J. H. Lee, K. W. Whang, and Y. W. Choi, J. Appl. Phys. 89, 2539 (2001).
9. Y. Noguchi, A. Matusoka, K. Uchino, and K. Muraoka, J. Appl. Phys. 91, 613 (2002).
10. O. Sahni, C. Lanza, and W. E. Howard, J. Appl. Phys. 49, 2365 (1978).
11. J. Meunier, P. Belenguer, and J. P. Boeuf, J. Appl. Phys. 78, 731 (1995).
12. R. Veerasingam, R. B. Campbell, and R. T. McGrath, Plasma Sources Sci. Technol, 6, 157 (1997).
13. C. Punset, J. P. Boeuf, and L. C. Pitchford, J. Appl. Phys. 83, 1884 (1998).
14. P. I. Drallos, V. P. Nargony, and W. Williamson, Plasma Sources Sci. Technol. 4, 576 (1995).
15. R. B. Campbell, R. Veerasingam, and R. T. McGrath, IEEE Trans. Plasma Sci. 23, 399 (1995).
16. H. S. Jeong, Y. Murakami, M. Seki, and H. Murakami, IEEE Trans. Plasma Sci. 29, 559 (2001).
17. H. C. Kim, M. S. Hur, S. S. Yang, S. W. Shin, and J. K. Lee, J. Appl. Phys. 91, 9513 (2002).
18. W. I. Chung, J. H. Seo, and K. W. Whang, IEEE Trans. Plasma Sci. 30, 665 (2002).
19. J. B. Anderson, J. Maya, M. W. Grossman, R. Lagushenko, and J. F. Waymouth, Phys. Rev. A 31, 2968 (1985).
20. A. F. MoLisch, B. P. Oehry, W. Schupita, and G. Magerl, Comput. Phys. Commun. 93, 127 (1993).
21. T. Holstein, Phys. Rev. 72, 1212 (1947); 83, 1159 (1951).
22. T. Holstein, Phys. Rev. 72, 1212 (1947); 83, 1159 (1951).
23. G. J. M. Hagelaar, M. H. Klein, R. J. M. M. Snijkers, and G. M. W. Kroesen, J. Appl. Phys. 88, 5538 (2000).
24. T. Straaten and M. I. Kushner, J. Appl. Phys. 87, 2700 (2000).
25. A. F. Molisch, B. P. Oehry, W. Schupita, and G. Magerl, Comput. Phys. Commun. 93, 127 (1993).
26. H. J. Lee, H. C. Kim, S. S. Yang, and J. K. Lee, Phys. Plasmas 9, 2822 (2002).
27. J. E. Lawler, G. J. Parker, and W. N. G. Hitchon, J. Quant. Spectrosc. Radiat. Transf. 49, 627 (1993).
28. H. J. Lee and J. P. Verboncoeur, Phys. Plasmas 8, 3077 (2001); 8, 3089 (2001).
29. H. J. Lee and J. P. Verboncoeur, Phys. Plasmas 8, 3077 (2001); 8, 3089 (2001).
30. H. J. Lee and J. P. Verboncoeur, J. Appl. Phys. 90, 4957 (2001).
31. H. J. Lee and J. P. Verboncoeur, Phys. Plasmas 9, 4804 (2002).
32. H. C. Kim, S. S. Yang, and J. K. Lee, IEEE Trans. Plasma Sci. 30. 188 (2002).
33. Y. K. Shin, T. S. Hwang, S. D. Kang, H. G. Park, J. H. Ryu, H. C. Kim, S. W. Shin, and J. K. Lee, J. Inf. Dis. 3, 13 (2002).
34. K. Igarashi, S. Mikoshiba, Y. Watanabe, M. Suzuki, and S. Murayama, J. Phys. D 28, 1377 (1995).
35. R. Ganter, Th. Callegari, L. C. Pitchford, and J. P. Boeuf, Appl. Surf. Sci. 192, 299 (2002).