Asymptotic behaviour of stress establishment in thin films

Surface Science

Volumn 465, Issue 1-2, 2000, Pages

  Muller P ^a   Thomas, O ^b  

^a CAMPUS DE LUMINY   (France)

^b AIX MARSEILLE UNIVERSITY   (France)

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GOLD; NICKEL; SEMICONDUCTING GERMANIUM; SEMICONDUCTING SILICON; STRESS ANALYSIS; THIN FILMS;

SURFACE STRESS;

INTERFACIAL ENERGY;

EID: 0037796161     PISSN: 00396028     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0039-6028(00)00691-9     Document Type: Article

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