Theoretical study of the chemisorption of benzene on Si(111)-7 × 7 surface

Acta Chimica Sinica

Volumn 60, Issue 4, 2002, Pages 653-659

  Li, Yan Cha ^a   Wang, Wen Ning ^a   Cao, Yong ^a   Fan, Kang Nian ^a  

^a FUDAN UNIVERSITY   (China)

Author keywords

B3LYP; Benzene; Chemisorption; HF; ONIOM; Si(111) 7 7 surface

Indexed keywords

EID: 0037785608     PISSN: 05677351     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Article

References (25)

1. Yi, J. W.; Lee, Y. H.; Farouk, B. Thin Solid Films 1998, 409, 228.
2. Singh, J. J. Mater. Eng. Perform. 1994, 3, 378.
3. Birkenheuer, U.; Gutdeutösch, U.; Rösch. N. Surf. Sci. 1998, 108, 5554.
4. Wolkow, R. A.; Lopinski, G. P.; Moffatt, D. J. Surf. Sci. 1998, 416, L1107.
5. Jeong, H. D.; Ryu, S.; Lee, Y. S.; Kim, S. Surf. Sci. 1995, 344, L1226.
6. MacPherson, C. D.; Hu, D. Q.; Leung, K. T. Solid State Commun. 1991, 50, 217.
7. Taguchi, Y.; Fujisawa, M.; Nishijima, M. Chem. Phys. Lett. 1991, 178, 363.
8. Carbone, M.; Piancastelli, M. N.; Zanoni, R.; Comtet, G.; Dujardin, G.; Hellner, L. Surf. Sci. 1998, 407, 275.
9. Cao, Y.; Wei, X. M.; Chin, W. S.; Lai, Y. H.; Deng, J. F.; Bernasek, S. L.; Xu, G. Q. J. Phys. Chem. B 1999, 103, 5698.
10. Wang, Z. H.; Cao, Y.; Xu, G. Q. Chem. Phys. Lett. 2001, 338, 7.
11. Schlier, R. E.; Farnsworth, H. E. J. Chem. Phys. 1959, 30, 917.
12. Takayanagi, K.; Tanishiro, T.; Takahashi, S.; Takahashi, M. J. Vac. Sci. Technol., A 1985, 3, 1503.
13. Tong, S. Y.; Huang, H.; Wei, C. M. J. Vac. Sci. Technol., A 1988, 6(3), 615.
14. Roothan, C. C. J. Rev. Mod. Phys. 1951, 69, 23.
15. (a) Lee, C.; Yang, W.; Parr, R. G. Phys. Rev. B: Condens. Matter 1988, 37, 785.
16. (b) Becke, A. D. J. Chem. Phys. 1993, 98, 1372.
17. (a) Dapprich, S.; Komaromi, I.; Byun, K. S.; Morokuma, K. J. Mol. Struct.-Theochem. 1999, 462, 1.
18. (b) Vreven, T.; Morokuma, K.; J. Comput. Chem. 2000, 21(16), 1419.
19. Vreven, T.; Morokuma, K. J. Chem. Phys. 1999, 111 (19), 8799.
20. Froese, R. D. J.; Humbel, S.; Svensson, M.; Morokuma, K. J. Phys. Chem. 1997, 101(2), 227.
21. Vreven, T.; Morokuma, K. J. Chem. Phys. 2000, 113 (8), 2969.
22. Frisch, M. J.; Trucks, G. W.; Schlegel, H. B.; Scuseria, G. E.; Robb, M. A.; Cheeseman, J. R.; Zakrzewski, V. G.; Montgomery, J. A.; Stratmann, R. E.; Burant, J. C.; Dapprich, S.; Millam, J. M.; Daniels, A. D.; Kudin, K. N.; Strain, M. C.; Farkas, O.; Tomasi, J.; Barone, V.; Cossi, M.; Cammi, R.; Mennucci, B.; Pomelli, C.; Adamo, C.; Clifford, S.; Ochterski, J.; Petersson, G. A.; Ayala, P. Y.; Cui, Q.; Morokuma, K.; Malick, D. K.; Rabuck, A. D.; Raghavachari, K.; Foresman, J. B.; Cioslowski, J.; Ortiz, J. V.; Baboul, A. G.; Stefanov, B. B.; Liu, G.; Liashenko, A.; Piskorz, P.; Komaromi, I.; Gomperts, R.; Martin, R. L.; Fox, D. J.; Keith, T.; Al-Laham, M. A.; Peng, C. Y.; Nanayakkara, A.; Gonzalez, C.; Challacombe, M.; Gill, P. M. W.; Johnson, B.; Chen, W.; Wong, M. W.; Andres, J. L.; Gonzalez, C.; Head-Gordon, M.; Replogle, E. S.; Pople, J. A. Gaussian 98, Revision A.7, Gaussian, Inc. Pittsburgh PA, 1998.
23. Tang, H. R.; Fan, K. N. Chem. Phys. Lett. 2000, 330, 509.
24. Shoemaker, J. R.; Burggraf, L. W.; Gordon, M. S. J. Phys. Chem. A 1999, 103, 3245.
25. Dewar, M. J. S.; Zoebisch, E. G.; Healy, E. F. J. Am. Chem. Soc. 1985, 107, 3902.