Thermal stability of W, WSix, and Ti/Al ohmic contacts to InGaN, InN, and InAlN

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 14, Issue 6, 1996, Pages 3520-3522

  Vartuli, C B ^a   Pearton, S J ^a   Abernathy, C R ^a   MacKenzie, J D ^a   Shul, R J ^b   Zolper, J C ^b   Lovejoy, M L ^b   Baca, A G ^b   Hagerott Crawford, M ^b  

^a University of Florida   (United States)

^b SANDIA NATIONAL LABORATORIES   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0037573087     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.588791     Document Type: Article

References (20)

1. S. Nakamura, M. Senoh, and T. Mukai, Jpn. J. Appl. Phys. 30, L1708 (1991).
2. S. C. Binari, L. B. Rowland, W. Kruppa, G. Keiner, K. Doverspike, and D. K. Gaskill, Electron. Lett. 30, 1248 (1994).
3. M. A. Khan, M. S. Shur, and Q. Chen, Electron. Lett. 31, 2130 (1995).
4. I. Akasaki, H. Amano, M. Kito, and K. Kiramatsu, J. Lumin. 48/49, 666 (1991).
5. S. Nakamura, M. Senoh, N. Iwasa, and S. Nagahama, Appl. Phys. Lett. 67, 1868 (1995).
6. J. C. Zolper, A. G. Baca, R. J. Shul, R. G. Wilson, S. J. Pearton, and R. A. Stall, Appl. Phys. Lett. 68, 166 (1996).
7. J. S. Foresi and T. D. Moustakas, Appl. Phys. Lett. 62, 2859 (1993).
8. M. A. Khan, T. N. Kuznia, A. R. Bhattaraia, and D. T. Olson, Appl. Phys. Lett. 62, 1786 (1993).
9. S. Nakamura, T. Mukai, and M. Senoh, Jpn. J. Appl. Phys. 30, L1998 (1991).
10. S. C. Binari, L. B. Rowland, W. Kruppa, G. Keiner, K. Doverspike, and D. K. Gaskill, Electron. Lett. 30, 1248 (1994).
11. S. Nakamura, M. Senoh, and T. Mukai, Appl. Phys. Lett. 62, 2390 (1993).
12. M. E. Lin, Z. Ma, F. Y. Huang, Z. F. Fan, L. A. Allen, and H. Morkoc, Appl. Phys. Lett. 64, 1003 (1994).
13. M. W. Cole, D. W. Eckart, T. Monahan, R. L. Pfeffer, W. Y. Han, F. Ren, C. Yuan, R. A. Stall, S. J. Pearton, Y. Li, and Y. Lu, J. Appl. Phys. 80, 278 (1996).
14. M. E. Lin, F. Y. Huang, and H. Morkoc, Appl. Phys. Lett. 64, 2557 (1994).
15. F. Ren, C. R. Abernathy, S. N. G. Chu, J. R. Lothian, and S. J. Pearton, Appl. Phys. Lett. 66, 1503 (1995).
16. F. Ren, C. R. Abernathy, S. J. Pearton, and P. W. Wisk, Appl. Phys. Lett. 64, 1508 (1994).
17. L. L. Smith and R. F. Davis, in Properties of Group III Nitrides, edited by J. H. Edgar, EMIS Datareview (INSPEC, London, 1994).
18. C. R. Abernathy, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 869 (1993).
19. C. R. Abernathy, Mater. Sci. Eng. Rep. 14, 203 (1995).
20. R. J. Shul, S. P. Kilcoyne, M. Hagerott-Crawford, J. E. Parmeter, C. B. Vartuli, C. R. Abernathy, and S. J. Pearton, Appl. Phys. Lett. 66, 1761 (1995).