Intermediate gas phase precursors during plasma CVD of HMDSO

Vacuum

Volumn 71, Issue 3 SPEC., 2003, Pages 349-359

  Theirich, D ^a   Soll, Ch ^a   Leu, F ^a   Engemann, J ^a  

^a UNIVERSITY OF WUPPERTAL   (Germany)

Author keywords

CVD; HMDSO; Infrared absorption; Mass spectrometry; Plasma; Polymerization; Precursor

Indexed keywords

ABSORPTION; FILM GROWTH; INFRARED RADIATION; MASS SPECTROMETRY; PLASMA POLYMERIZATION; SILICA; THIN FILMS;

REACTIVE RADICALS;

PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION;

EID: 0037454451     PISSN: 0042207X     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0042-207X(02)00763-7     Document Type: Conference Paper

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