New photoresist materials for 157-nm lithography. Poly[vinylsulfonyl fluoride-co-4-(1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-hydroxypropyl)-styrene] partially protected with tert-butoxycarbonyl

Chemistry of Materials

Volumn 15, Issue 7, 2003, Pages 1512-1517

  Fujigaya, Tsuyohiko ^a   Sibasaki, Yuji ^a   Ando, Shinji ^a   Kishimura, Shinji ^b   Endo, Masayoshi ^b   Sasago, Masaru ^b   Ueda, Mitsuru ^a  

^a TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (Japan)

^b PANASONIC CORPORATION   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COPOLYMERS; FREE RADICAL POLYMERIZATION; LITHOGRAPHY; STYRENE; THICK FILMS; VACUUM APPLICATIONS;

MOLECULAR ORBITALS;

PHOTORESISTS;

4 DIMETHYLAMINOPYRIDINE; CARBONYL DERIVATIVE; COPOLYMER; DI TERT BUTYL DICARBONATE; HYDROXIDE; POLY[VINYLSULFONYLFLUORIDE CO 4 (1,1,1,3,3,3 HEXAFLUORO 2 HYDROXYPROPYL)STYRENE]; POLYMER; TERT BUTOXYCARBONYL; TETRAMETHYLAMMONIUM; UNCLASSIFIED DRUG;

AQUEOUS SOLUTION; ARTICLE; CALCULATION; FLUORINATION; FOURIER TRANSFORMATION; INFRARED SPECTROSCOPY; MATERIALS; NUCLEAR MAGNETIC RESONANCE SPECTROSCOPY; POLYMERIZATION; SYNTHESIS; ULTRAVIOLET RADIATION;

EID: 0037426540     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm020198h     Document Type: Article

References (44)

1. International Technology Roadmap for Semiconductors; International SEMATECH: Austin, TX, 2001.
2. Kunz, R. R.; Bloomstein, T. M.; Hardy, D. E.; Goodman, R. B.; Downs, D. K.; Curtin, J. E. J. Vac. Sci. Technol. 1999, B 17 (6), 3267.
3. Kunz, R. R.; Bloomstein, T. M.; Hardy, D. E.; Goodman, R. B.; Downs, D. K.; Curtin, J. E. J. Photopolym. Sci. Technol. 1999, 12, 561.
4. Ito, H.; Wallraff, G. M.; Brock, P.; Fender, N.; Truong, H.; Breyta, G.; Miller, D. C.; Sherwook, M. H.; Allen, R. D. Proc. SPIE 2001, 4345, 273.
5. Ito, H.; Wallraff, G. M.; Brock, P.; Fender, N.; Larson, C. E.; Truong, H.; Breyta, G.; Miller, D. C.; Sherwook, M. H.; Allen, R. D. J. Photopolym. Sci. Technol. 2001, 14, 583.
6. Hall, D. S.; Osborn, B.; Patterson, K.; Burns, S. D.; Willson, C. G. Proc. SPIE 2001, 4345, 1066.
7. Ito, H.; Wallraff, G. M.; Fender, N.; Brock, P. J.; Hinsberg, W. D.; Mahorowala, A.; Larson, C. E.; Truong, H. D.; Breyta, G.; Allen, R. D. J. Vac. Sci. Technol. 2001, B 19 (6), 2678.
8. Ito, H.; Seehol, N.; Sato, R.; Nakayama, T.; Ueda, M. In Micro-and Nanopatterning Polymers; Ito, H., Reichmanis, E., Nalamasu, O., Ueno, T., Eds.; ACS Symposium Series; American Chemical Society: Washington, DC, 1998; pp 208-223.
9. Dammel, R. R.; Sakamuri, R.; Romano, A. R.; Vicari, R.; Hacker, C.; Conley, W.; Miller, D. Proc. SPIE 2001, 4345, 350.
10. Dammel, R. R.; Sakamuri, R.; Kudo, T.; Romano, A.; Rhodes, L.; Vicari, R.; Hacker, C.; Conley, W.; Miller, D. J. Photopolym. Sci. Technol. 2001, 14, 603.
11. Tran, H. V.; Hung, R. J.; Chiba, T.; Yamada, S.; Mrozek, T.; Hsieh, Y. T.; Chambers, C. R.; Osborn, B.; Trinque, B. C.; Pinnow, M. J.; Sanders, D. P.; Connor, E. F.; Grubbs, R. H.; Conley, W.; MacDonald, S. A.; Willson, C. G. J. Photopolym. Sci. Technol. 2001, 14, 669.
12. Schmaljohann, D.; Bae, Y. C.; Dai, J.; Weibel, G. L.; Hamad, A. H.; Ober, C. K. J. Photopolym. Sci. Technol. 2000, 13, 451.
13. Schmaljohann, D.; Bae, Y. C.; Dai, J.; Weibel, G. L.; Hamad, A. H.; Ober, C. K. Proc. SPIE 2000, 3999, 330.
14. Schmaljohann, D.; Ober, C. K. ACS Polym. Prepr. 2001, 42, 403.
15. Dammel, R. R.; Sakamuri, R.; Kudo, T.; Romano, A.; Rhodes, L.; Vicari, R.; Hacker C.; Conley, W.; Miller, D. J. Photopolym. Sci. Technol. 2001, 14, 603.
16. Crawford, M. K.; Feiring, A. E.; Feldman, J.; French, R. H.; Periyasamy, M.; Schadt, F. L., III; Smalley, R. J.; Zumsteg, F. C.; Kunz, R. R.; Rao, V.; Liao, L.; Holl, S. M. Proc. SPIE 2000, 3999, 357.
17. Toriumi, M.; Satou, I.: Itani, T.; J. Vac. Sci. Technol. B 2000, 18, (Nov/Dec), 3328.
18. Patterson, K.; Yamachika, M.; Hung, R. J.; Brodsky, C.; Yamada, S.; Somervell, M.; Osborn, B.; Hall, D.; Dukovic, G.; Byers, J.; Conley, W.; Willson, C. G. Proc. SPIE 2000, 3999, 365.
19. Chiba, T.; Hung, R. J.; Yamada, S.; Trinque, B.; Yamachika, M.; Brodsky, C.; Patterson, K.; Heyden, A. V.; Jamison, A.; Lin, S. H.; Somervell, M.; Byers, J.; Conley, W.; Willson, C. G. J. Photopolym. Sci. Technol. 2000, 13, 657.
20. Brodsky, C.; Byers, J.; Conley, W.; Hung, R. J.; Yamada, S.; Patterson, K.; Somervell, M.; Trinque, B.; Tran, H.; Cho, S.; Chiba, T.; Lin, S. H.; Jamieson, A.; Johnson, H.; Heyden, T. V.; Willson, C. G. J. Vac. Sci. Technol. B 2000, 18, 3396.
21. Hung, R. J.; Tran, H. V.; Trinque, B.; Chiba, T.; Yamada, S.; Sanders, D. P.; Conner, E. F.; Grubbs, R. H.; Klopp, J.; Frechet, J. M. J.; Thomas, B. H.; Shafer, G. J.; DesMarteau, D. D.; Conley, W.; Willson, C. G. Proc. SPIE 2001, 4345, 385.
22. Kunz, R. R.; Sinta, R.; Sworin, M.; Mowers, W. A.; Fedynyshyn, T. H.; Fiberman, V.; Curtin, J. E. Proc. SPIE 2001, 4345, 285.
23. Fedynyshyn, T. H.; Kunz, R. R.; Sinta, R.; Sworin, M.; Mowers, W.; Goodman, R. B.; Doran, S. P. Proc. SPIE 2001, 4345, 298.
24. Fender, N.; Brock, P. J.; Chau, W.; Bangsaruntip, S.; Mahorowala, A.; Wallraff, G. M.; Hinsberg, W. D.; Larson, C. E.; Ito, H.; Breyta, G.; Burnham, K.; Truong, H.; Lawson, P.; Allen, R. D. Proc. SPIE 2001, 4345, 417.
25. Conley, W.; Trinque, B. C.; Miller, D. A.; Zimmerman, P.; Kudo, T.; Dammel, R. R.; Romano, A. R.; Willson, C. G. Proc. SPIE. 2002, 4690, 94.
26. Song, K.-Y.; Yoon, K.-S.; Choi, S.-J.; Woo, S.-G.; Han, W.-S.; Lee, J.-J.; Lee, S.-K.; Noh, C.-H.; Honda, K. Proc. SPIE 2002, 4690, 504.
27. Naito, T.; Saito, S.; Shida, N. Ushirogouchi, T. J. Photopolym. Sci. Technol. 2002, 15, 689.
28. Willson, C. G.; Trinque, B. C.; Osborn, B. P.; Chambers, C. R.; Hsieh, Y.-T.; Chiba, T.; Zimmerman, P.; Miller, D.; Conley, W. J. Photopolym. Sci. Technol. 2002, 15, 583.
29. Matsuzawa, N. N.; Ishitani, A.; Dixon, D. A.; Uda, T. Proc. SPIE 2001, 4345, 396.
30. Dixon, D. A.; Matsuzawa, N. N.; Ishitani, A.; Uda, T. Phys. Status Solidi B 2001, 226, 69.
31. Matsuzawa, N. N.; Ishitani, A.; Dixon, D. A.; Uda, T. J. Phys. Chem. A 2001, 105, 4953.
32. Matsuzawa, N. N.; Mori, S.; Yano, E.; Okazaki, S.; Ishitani, A.; Dixon, D. A. Proc. SPIE 2000, 3999, 375.
33. Ando, S.; Fujigaya, T.; Ueda, M. Jpn. J. Appl. Phys. 2002, 41, 2A, L105.
34. Conley, W.; Miller, D.; Chambers, C.; Trinique, B. C.; Osborn, B.; Chiba, T.; Zimmerman, P.; Dammel, R.; Romano, A.; Willson, C. G. J. Photopolym. Sci. Technol. 2002, 15, 613.
35. Gauthier, M.; Carrozzella, T.; Penlidis, A. J. Polym. Sci. A: Polym. Chem. 2002, 40, 511.
36. Slonimskii, G.; Askadskii, A.; Kitaigodorodskii, A. Polym. Sci. USSR A 1970, 12, 556.
37. Bondi, A. J. Phys. Chem. 1964, 68, 441.
38. Krutak, J. J.; Buripitt, R. D.; Moore, W. H.; Hyatt, J. A. J. Org. Chem. 1979, 44, 22.
39. Kern, V. W.; Schulz, R. C.; Schlesmann, H. Makromol. Chem. 1960, 39, 1.
40. Kern, V. W.; Schulz, R. C.; Schaefer, W. Angew. Chem. 1957, 49, 167.
41. Ando, S.; Fujigaya, T.; Ueda, M. J. Photopolym. Sci. Technol. 2002, 15, 559.
42. Grandler, J. R.; Jencks, W. P. J. Am. Chem. Soc. 1982, 104, 1937.
43. Przybilla, K. J.; Roeschert, H.; Pawlowski, G. Proc. SPIE 1992, 1672, 500.
44. Fukuda, H. J. Photopolym. Sci. Technol. 2002, 15, 389.