Flow rate and interface roughness of zinc oxide thin films deposited by spray pyrolysis technique

Journal of Applied Physics

Volumn 93, Issue 1, 2003, Pages 632-640

  Ebothe J ^a   El Hichou, A ^a   Vautrot, P ^a   Addou, M ^b  

^a UNIVERSITÉ DE REIMS CHAMPAGNE ARDENNE   (France)

^b IBN TOFAIL UNIVERSITY   (Morocco)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; DOPING (ADDITIVES); ELECTRIC CONDUCTIVITY; EPITAXIAL GROWTH; FLOW PATTERNS; MICROSTRUCTURE; MORPHOLOGY; OPACITY; PYROLYSIS; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SURFACE ROUGHNESS; THERMODYNAMIC STABILITY; ZINC OXIDE;

SCANNING PROBE MICROSCOPY (SPM); SPRAY PYROLYSIS;

THIN FILMS;

EID: 0037246596     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1524721     Document Type: Article

References (33)

1. K. L. Chopra, S. Major, and D. K. Pandya, Thin Solid Films 102, 1 (1983).
2. G. S. Trivikrama Rao and D. Tarakarama Rao, Sens. Actuators B 55, 166 (1999).
3. B. T. Khuri-Yakub, G. S. Kino, and G. Galle, J. Appl. Phys. 46, 3266 (1975).
4. S. Zhu, C.-H. Su, S. L. Lehoczky, M. T. Harris, M. J. Callahan, P. McCarty, and M. A. George, J. Cryst. Growth 225, 190 (2001).
5. Y. Kashiwaba, F. Katahira, K. Haga, T. Sekiguchi, and H. Watanabe, J. Cryst. Growth 221, 431 (2000).
6. P. Nunes, A. Malik, B. Fernandes, E. Fortunato, P. Vilarinho, and R. Martins, Vacuum 52, 45 (1999).
7. J. Krim and G. Palasantzas, Int. J. Mod. Phys. B 9, 599 (1995).
8. J. Ebothé and S. Vilain, J. Phys. D 32, 2342 (1999).
9. M. Hiane and J. Ebothé, Eur. Phys. J. B 22, 485 (2001).
10. W. M. Tong, R. S. Williams, A. Yanase, Y. Segawa, and M. S. Anderson, Phys. Rev. Lett. 72, 3374 (1994).
11. G. W. Collins, S. A. Letts, E. M. Fearon, R. L. McEachern, and T. P. Bernat, Phys. Rev. Lett. 73, 708 (1994).
12. T. W. Kim, D. U. Lee, D. C. Choo, J. H. Lee, M. Jung, J. Cho, K. Y. Seo, and Y. S. Yoon, J. Phys. Chem. Solids 62, 1199 (2001).
13. Y. R. Ruy, S. Zhu, J. M. Wrobel, H. M. Jeong, P. F. Miceli, and H. W. White, J. Cryst. Growth 216, 326 (2000).
14. M. Zinke-Allmang and L. C. Fedman, Appl. Surf. Sci. 52, 357 (1991).
15. T. Yoshinobu, A. Iwamoto, and H. Iwasaki, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, 383 (1994).
16. T. Yoshinobu, A. Iwamoto, K. Sudoh, and H. Iwasaki, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 1630 (1995).
17. F. Family and T. Vicsek, J. Phys. A 18, L75 (1985).
18. E. Hartmann, P. O. Hahn, and R. J. Behm, J. Appl. Phys. 69, 4273 (1991).
19. I. Otsuka and T. Iwasaki, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 1153 (1996).
20. L. Vàzquez, R. C. Salvarezza, P. Herrasti, P. Ocòn, J. M. Vara, and A. J. Ariva, Appl. Surf. Sci. 70/71, 413 (1993).
21. B. B. Mandelbrot, The Fractal Geometry of Nature (Freeman, New York, 1982).
22. M. Addou, A. Moumin, B. El Idrissi, M. Regraui, A. Bougrine, and A. Kachouane, J. Chem. Phys. 96, 232 (1999).
23. S. Mendez, G. Andreasen, P. Schilardi, M. Figueroa, L. Vàsquez, R. C. Salvarezza, and A. J. Arvia, Langmuir 14, 2515 (1998).
24. A. L. Barabàsi and H. E. Stanley, Fractal Concept in Surface Growth (Cambridge University Press, New York, 1995).
25. L. Vàzquez, R. C. Salvarezza, P. Herrasti, P. Ocòn, J. M. Vara, and A. J. Arvia, Phys. Rev. B 52, 2032 (1995).
26. S. Huo and W. Schwarzacher, Phys. Rev. Lett. 86, 256 (2001).
27. L. Vàzquez, J. M. Albella, R. C. Salvarezza, A. J. Arvia, R. A. Levy, and D. Perese, Appl. Phys. Lett. 68, 1285 (1996).
28. H. J. Ernst, F. Fabre, R. Folkets, and J. Lapyjoulade, Phys. Rev. Lett. 72, 112 (1994).
29. W. U. Schmidt, R. C. Alkire, and A. A. Gewirth, J. Electrochem. Soc. 143, 3122 (1996).
30. D. J. Srolovitz, A. Mazor, and B. G. Bukiet, J. Vac. Sci. Technol. A 6, 2371 (1988).
31. A. E. Lita and J. E. Sanchez, Jr., Phys. Rev. B 61, 7692 (2000).
32. W. K. Pratt, Digital Image Processing (Wiley, Chichester, UK, 1991).
33. J. Ebothé and M. Hiane, Appl. Surf. Sci. 183, 93 (2001).