Field emission vacuum power switch using vertically aligned carbon nanotubes

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 21, Issue 1 SPEC., 2003, Pages 338-343

  Rupesinghe, N L ^a   Chhowalla, M ^a   Teo, K B K ^a   Amaratunga, G A J ^a  

^a UNIVERSITY OF CAMBRIDGE   (United Kingdom)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CARBON NANOTUBES; CATHODES; CURRENT DENSITY; OPTIMIZATION; PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; VACUUM APPLICATIONS;

DIODE CONFIGURATION; FIELD EMISSION PROPERTIES; VACUUM POWER SWITCH;

MICROELECTRONICS;

EID: 0037207727     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.1527635     Document Type: Article

References (21)

1. V. I. Merkulov, D. H. Lowndes, Y. Y. Wei, G. Eres, and E. Voekl, Appl. Phys. Lett. 76, 3555 (2000).
2. A. C. Dillon, K. M. Jones, T. A. Bekkedahi, C. H. Kiang, D. S. Bethune, and M. J. Heben, Nature (London) 386, 377 (1997).
3. B. Gao, A. Kleinhammes, X. P. Tang, C. Bower, L. Fleming, Y. Wu, and O. Zhou, Chem. Phys. Lett. 307, 153 (1999).
4. C. M. Niu, E. K. Sichel, R. Hoch, D. Moy, and H. Tennent, Appl. Phys. Lett. 70, 1480 (1997).
5. J. N. Barisci, G. G. Wallace, and R. H. Baughman, J. Electroanal. Chem. 488, 92 (2000).
6. E. Frackwiak, K. Metenier, V. Bertagna, and F. Beguin, Appl. Phys. Lett. 77, 2421 (2000).
7. W. A. de Heer, A. Chatelaine, and D. Ugarte, Science 270, 1179 (1995).
8. J. M. Bonard, J. P. Salvetat, T. Stockli, L. Forro, and A. Chatelain, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 69, 245 (1999).
9. J. M. Kim, W. b. Choi, N. S. Lee, and J. E. Jung, Diamond Relat. Mater. 9, 1184 (2000).
10. W. Zhu, C. Bower, O. Zhou, G. Kochanski, and S. Jin, Appl. Phys. Lett. 75, 873 (1999).
11. P. G. Collins and A. Zettl, Appl. Phys. Lett. 69, 1969 (1996).
12. J.-M. Bonard, J. P. Salvetat, T. S. Ckli, W. A. de Heer, L. S. Forro, and A. C. Telain, Appl. Phys. Lett. 73, 918 (1998).
13. J.-M. Bonard, F. Maier, T. Stockli, A. Chatelain, W. A. de Heer, J. P. Salyeta, and L. Forro, Ultramicroscopy 73, 7 (1998).
14. K. A. Dean and A. Zettl, Appl. Phys. Lett. 55, 9391 (1997).
15. Phys. Rev. B 55, 9391 (1997).
16. J.-M. Bonard, J. P. Salvetat, T. Stockli, L. S. Forro, and A. Chatelain, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 69, 245 (1999).
17. M. Chhowalla, K. B. K. Teo, C. Ducati, N. L. Rupesoinghe, G. A. J. Amaratunga, A. C. Ferrari, D. Roy, J. Robertson, and W. I. Milne, J. Appl. Phys. 90, 5308 (2001).
18. SILVACO International.
19. M. Chhowalla, C. Ducati, N. L. Rupesinghe, K. B. K. Teo, and G. A. J. Amaratunga, Appl. Phys. Lett. 79, 2079 (2001).
20. S. B. Lee, K. B. K. Teo, L. A. Robinson, A. S. Teh, M. Chhowalla, D. G. Hasko, G. A. J. Amaratunga, W. I. Milne, and H. Ahmed, Proceedings of the 46th International Conference on Electron, Ion and Photon Beam Technology and Nanofabrication, Anaheim, CA, 2002.
21. Y. C. Lan, J. T. Lai, S. H. Chen, W. C. Wang, C. H. Tsai, and C. Y. Sheu, J. Vac. Sci. Technol. B 18, 911 (2000).