The effect of annealing temperatures on the microstructure of La0.5Ca0.5Mno3 films

Modern Physics Letters B

Volumn 16, Issue 27, 2002, Pages 1049-1059

  Chen, X M ^a   Wang, Y ^a   Liu, C X ^a   Zhao, Y N ^a   Li, M ^a   Mai, Z H ^a   Gong, W Z ^a   Zhao, B R ^a   Jia, C J ^b   Zheng, W L ^b  

^a INSTITUTE OF GEOLOGY AND GEOPHYSICS   (China)

^b INSTITUTE OF HIGH ENERGY PHYSICS   (China)

Author keywords

Annealing; Microstructure; Strain

Indexed keywords

CALCIUM DERIVATIVE; LANTHANUM; MANGANESE DERIVATIVE; OXIDE;

ARTICLE; ATOMIC FORCE MICROSCOPY; CHEMICAL ANALYSIS; CHEMICAL STRUCTURE; FILM; LASER; MATERIALS; MATERIALS TESTING; MORPHOLOGY; NANOPARTICLE; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SPECTROSCOPY; TEMPERATURE; X RAY DIFFRACTION;

EID: 0037146439     PISSN: 02179849     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1142/S0217984902004573     Document Type: Article

References (24)

1. A. Urushibara, Y. Moritomo, T. Arima, A. Asamitsu, G. Kido and Y. Tokura, Phys. Rev. B51, 14103 (1995).
2. C. N. R. Rao, A. K. Cheetham and R. Mahesh, Chem. Mater. 8, 2421 (1996).
3. C. N. R. Rao and A. K. Cheetham, Science 272, 369 (1996).
4. J. Jorzick, S. O. Demokritov, B. Hillebrands, B. Bartenlian, C. Chappert, D. Decanini, F. Rousseaux and E. Cammbril, Appl. Phys. Lett. 75, 3859 (1999).
5. C. J. Lu, Z. L. Wang, C. Kwon and Q. X. Jia, J. Appl. Phys. 88, 4032 (2000).
6. W. Z. Gong, B. R. Zhao, C. Cai and Y. Lin, Appl. Phys. Lett. 79, 827 (2001).
7. H. B. Peng, B. R. Zhao, Z. Xie, Y. Lin, B. Y. Zhu, Z. Hao, Y. M. Ni, H. J. Tao, X. L. Dong and B. Xu, Appl. Phys. Lett. 74, 1606 (1999).
8. R. A. Rao, D. Lavric, T. K. Nath, C. B. Eom, L. Wu and F. Tsui, Appl. Phys. Lett. 73, 3294 (1998).
9. X. L. Wang, S. X. Dou, H. K. Liu, M. Lonescu and B. Zeimetz, Appl. Phys. Lett. 73, 396 (1998).
10. G. H. Jonker and J. H. Van Santen, Physica (Amsterdam) 17, 337 (1950).
11. P. G. De Gennes, Phys. Rev. 118, 141 (1959).
12. J. J. Heremans, S. Watts, S. Wirth, X. Yu, E. S. Gillman, K. H. Dahmen and S. von Molnér, J. Appl. Lett. 83, 7055 (1998).
13. D. J. Miller, Y. K. Lin, V. Vlasko-Vlasov and U. Welp, J. Appl. Phys. 87, 6758 (2000).
14. B. Vengalis, A. Maneikis, F. Anisimovas, R. Butkut, L. Dapkus and A. Kindurys, J. Magn. Magn. Mater. 172, 229 (1997).
15. B. C. Nam, W. W. Kim, H. S. Kim, N. H. Hur, I. S. Kim and Y. K. Park, J. Phys. D34, 54 (2001).
16. G. M. Gross, F. S. Razavi, R. B. Praus and H.-U. Habermeter, J. Magn. Magn. Mater. 211, 22 (2000).
17. H. B. Peng, B. R. Zhao, Z. Xie, Y. Lin, B. Y. Zhu, Z. Hao, H. J. Tao, B. Xu, C. Y. Wang, H. Chen and F. Wu, Phys. Rev. Lett. 82, 362 (2001).
18. D. Leonard, M. Krishnamurthy, C. M. Reaves, S. P. Denbaars and P. M. Petroff, Appl. Phys. Lett. 63, 3203 (1993).
19. M. Moison, F. Houzay, F. Barthe, L. Leprince, E. Andre and O. Vatel, Appl. Phys. Lett. 64, 196 (1994).
20. Y. Murakami, D. Shindo, H. Chiba, M. Kikuchi and Y. Syono, Phys. Rev. B55, 15043 (1997).
21. D. K. Fork et al., Appl. Phys. Lett. 58, 2432 (1991).
22. N. Bowden, S. Brittain, A. G. Evans, J. W. Hutchinson and G. M. Whitesides, Nature (London) 393, 146 (1998).
23. S. Jin, T. H. Tiefel, M. McCormack, R. A. Fastmaacht, R. Ramesh and L. H. Chen, Science 264, 413 (1995).
24. Y. H. Li, K. A. Thomas, P. s. L. P. N. de Silva, L. F. Chen, A. Goyal, M. Rajeswari, N. D. Mathur, M. G. Biamire, J. E. Evetts, T. Venkatesan and J. L. MacManus-Driscoll, J. Mater. Res. 13, 2164 (1998).