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Volumn 82, Issue 15, 2002, Pages 1695-1701

Polycrystalline silicon deposited on glass by subatmospheric-pressure chemical vapour deposition at a high rate

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EID: 0036815024     PISSN: 13642812     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1080/13642810210157090     Document Type: Article
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.