Electrodeposited nickel-tungsten alloys for micro-engineering - Part 1: Deposition based on Wegramjan electrolytes;Galvanisch abgeschiedene nickel-wolfram-legierungsschichten für die mikrosystemtechnik - Teil 1: Abscheidungen auf der basis des Wagramjan-elektrolyten

Galvanotechnik

Volumn 93, Issue 8, 2002, Pages 2108-2117+VII

  Fritz, Th ^a   Mokwa, W ^a   Schnakenberg, U ^a  

^a RWTH AACHEN UNIVERSITY   (Germany)

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CRACK INITIATION; CURRENT DENSITY; ELECTROLYTES; HARDNESS; NICKEL ALLOYS; PROTECTIVE COATINGS;

MICRO-ENGINEERING;

ELECTRODEPOSITION;

EID: 0036685234     PISSN: 00164232     EISSN: None     Source Type: Trade Journal    
DOI: None     Document Type: Article

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