Polymers designed for laser ablation-influence of photochemical properties

Applied Surface Science

Volumn 197-198, Issue , 2002, Pages 746-756

  Lippert, T ^a   Dickinson, J T ^b   Hauer, M ^a   Kopitkovas, G ^a   Langford, S C ^b   Masuhara, H ^c   Nuyken, O ^d   Robert, J ^d   Salmio, H ^a   Tada, T ^c   Tomita, K ^c   Wokaun, A ^a  

^a PAUL SCHERRER INSTITUTE   (Switzerland)

^b WASHINGTON STATE UNIVERSITY   (United States)

^c OSAKA UNIVERSITY   (Japan)

^d TECHNICAL UNIVERSITY OF MUNICH   (Germany)

Author keywords

Ablation; Interferometry; TOF MS; Triazene polymer

Indexed keywords

DECOMPOSITION; ETCHING; INTERFEROMETRY; LASER ABLATION; LASER PULSES; MASS SPECTROMETRY; PHOTOCHEMICAL REACTIONS; POLYESTERS;

PHOTOCHEMICAL ETCHING;

SURFACE PROPERTIES;

EID: 0036432890     PISSN: 01694332     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0169-4332(02)00404-X     Document Type: Conference Paper

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