Dielectric property and conduction mechanism of ultrathin zirconium oxide films

Applied Physics Letters

Volumn 79, Issue 22, 2001, Pages 3666-3668

  Chang, J P ^a   Lin, Y S ^a  

^a UNIVERSITY OF CALIFORNIA   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0035956172     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1418265     Document Type: Article

References (27)

1. G. E. Moore, Electronics 38, 114 (1965).
2. T. S. Jeon, J. M. White, and D. L. Kwong, Appl. Phys. Lett. 78, 368 (2001).
3. M. Cupel, M. Gribelyuk, and E. Gusev, Appl. Phys. Lett. 76, 436 (2000).
4. K. S. Tang, W. S. Lau, and G. S. Samudra, IEEE Circuits Devices Mag. 13, 27 (1997).
5. A. Ishitani, P. Lesaicherre, S. Kamiyama, K. Amdo, and H. Watanabe, IEICE Trans. Electron. E76-C, 1564 (1993).
6. D. Kotecki, Semicond. Int. 19, 109 (1996).
7. C. Chaneliere, J. L. Autran, R. A. B. Devine, and B. Balland, Mater. Sci. Eng., R. 22, 269 (1998).
8. G. B. Alers, R. M. Fleming, Y. H. Wong, B. Dennis, A. Pinczuk, G. Redinho, R. Urdahl, E. Ong, and S. Hasan, Appl. Phys. Lett. 72, 1308 (1998).
9. B. Ho, T. Ma, S. A. Campbell, and W. L. Gladfelter, Tech. Dig. - Int. Electron Devices Meet., 1038 (1998).
10. L. Manchanda, W. H. Lee, J. E. Bower, F. H. Baumann, W. L. Brown, C. J. Case, R. C. Keller, Y. O. Kim, E. J. Laskowski, M. D. Morris, R. L. Opila, P. J. Silverman, T. W. Sorsch, and G. R. Weber, Tech. Dig. - Int. Electron Devices Meet., 605 (1998).
11. M Balog, M. Schieber, M. Michman, and S. Patai, J. Electrochem. Soc. 126, 1203 (1979).
12. G. D. Wilk and R. M. Wallace, Appl. Phys. Lett. 74, 2854 (1999).
13. B, van Dover, L. F. Schneemeyer, and R. M. Fleming, Nature (London) 392, 162 (1998).
14. R. A. McKee, F. J. Walker, and M. F. Chisholm, Phys. Rev. Lett. 14, 3014 (1998).
15. J.-P. Han and T. P. Ma, Appl. Phys. Lett. 72, 1185 (1998).
16. G. Lucovsky, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 356 (1998).
17. E. P. Gusev, H. C. Lu, T. Gustafsson, E. Garfunkel, M. L. Green, and D. Brasen, J. Appl. Phys. 82, 896 (1997).
18. E. C. Carr, K. A. Ellis, and R. A. Buhrman, Appl. Phys. Lett. 66, 1492 (1995).
19. M. Bhat, L. K. Han, D. Wristers, J. Yan, and D. L. Kwong, J. Appl. Phys. Lett. 66, 1225 (1995).
20. Z. H. Lu, R. J. Hussey, M. J. Graham, R. Cao, and S. P. Tay, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 2882 (1996).
21. T. P. Ma, IEEE Trans. Electron Devices 45, 680 (1998).
22. J. Robertson, J. Vac. Sci. Technol. B 18, 1785 (2000).
23. J. P. Chang, Y.-S. Lin, and K. Chu, J. Vac. Sci. Technol. B 19, 1782 (2001).
24. I. Brain, Thermochemical Data of Pure Substances (VCH, New York, 1995).
25. R. J. Lewis, Sr., Condensed Chemical Dictionary, 12th ed. (Van Norstrand Reinhold, New York, 1993).
26. J. P. Chang, Y.-S. Lin, S. Berger, A. Kepten, R. Bloom, and S. Levy, J. Vac. Sci. Technol. B (accepted for publication).
27. L. M. Terman, Solid-State Electron. 5, 285 (1962).