Metallic contamination in hydrogen plasma immersion ion implantation of silicon

Journal of Applied Physics

Volumn 90, Issue 8, 2001, Pages 3743-3749

  Chu, Paul K ^a   Fu, Ricky K Y ^a   Zeng, Xuchu ^a   Kwok, Dixon T K ^a  

^a CITY UNIVERSITY OF HONG KONG   (Hong Kong)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0035886116     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1404422     Document Type: Article

References (21)

1. H. Vogt, G. Burbach, J. Belz, and G. Zimmer, Solid State Technol. 34, 79 (1991).
2. J. P. Colinge, Silicon-on-Insulator Technology: Materials to VLSI (Kluver, Boston, MA, 1991).
3. X. Lu, N. W. Cheung, M. D. Strathman, P. K. Chu, and B. Doyle, Appl. Phys. Lett. 71, 1804 (1997).
4. P. K. Chu, X. Lu, S. S. K. Iyer, and N. W. Cheung, Solid State Technol. 40, S9 (1997).
5. X. Lu, S. S. K. Iyer, C. M. Hu, N. W. Cheung, J. Min, Z. N. Fan, and P. K. Chu, Appl. Phys. Lett. 71, 2767 (1997).
6. J. R. Conrad, J. L. Radtke, R. A. Dodd, F. J. Worzala, and N. C. Tran, J. Appl. Phys. 62, 4591 (1987).
7. P. K. Chu, S. Qin, C. Chan, N. W. Cheung, and L. A. Larson, Mater. Sci. Eng., R. R17, 207 (1996).
8. N. W. Cheung, Mater. Chem. Phys. 46, 132 (1996).
9. P. K. Chu, N. W. Cheung, C. Chan, B. Mizuno, and O. R. Monteiro, in Handbook of Plasma Immersion Ion Implantation and Deposition, edited by A. Anders (Wiley, New York, 2000), Chap. 11, p. 637.
10. Z. Fan, X. Zeng, P. K. Chu, C. Chan, and M. Watanabe, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 155, 75 (1999).
11. US patent No. 6,120,660.
12. P. K. Chu, B. Y. Tang, Y. C. Cheng, and P. K. Ko, Rev. Sci. Instrum. 68, 1866 (1997).
13. J. Matossian, G. A. Collins, P. K. Chu, C. P. Munson, and J. V. Mantese, in Ref. 9, Chap. 6, p. 343.
14. D. T. K. Kwok, P. K. Chu, B. P. Wood, and C. Chan, J. Appl. Phys. 86, 1817 (1999).
15. T. E. Sheridan, J. Appl. Phys. 74, 4903 (1993).
16. X. C. Zeng, T. K. Kwok, A. G. Liu, P. K. Chu, B. Y. Tang, and T. E. Sheridan, Appl. Phys. Lett. 71, 1035 (1997).
17. T. E. Sheridan, T. K. Kwok, and P. K. Chu, Appl. Phys. Lett. 72, 1826 (1998).
18. X. C. Zeng, T. K. Kwok, A. G. Liu, P. K. Chu, and B. Y. Tang, J. Appl. Phys. 83, 44 (1998).
19. D. T. K. Kwok, P. K. Chu, and C. Chan, IEEE Trans. Plasma Sci. 26, 1669 (1998).
20. P. K. Chu, S. Qin, C. Chan, N. W. Cheung, and P. K. Ko, IEEE Trans. Plasma Sci. 26, 79 (1998).
21. Z. Fan, P. K. Chu, C. Chan, and N. W. Cheung, Appl. Phys. Lett. 73, 202 (1998).