Thermal stability of the antiferromagnetically coupled Co/Cu/Co stack

Journal of Applied Physics

Volumn 89, Issue 11 II, 2001, Pages 7508-7510

  Bal, K ^a   Van Den Berg, H A M ^b   Keen, A ^a   Rasing, Th ^a  

^a RADBOUD UNIVERSITY NIJMEGEN   (Netherlands)

^b SIEMENS AG   (Germany)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0035356796     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1360684     Document Type: Article

References (9)

1. D. D. Tang, P. K. Wang, V. S. Speriosu, and K. K. Kung, IEEE Trans. Magn. 31, 4237 (1995).
2. H. A. M. van den Berg, W. Clemens, G. Gieres, G. Rupp, M. Vieth, J. Wecker, and S. Zoll, J. Magn. Magn. Mater. 165, 524 (1997).
3. W. Clemens, H. A. M. van den Berg, and G. Rupp, J. Appl. Phys. 81, 4310 (1997).
4. H. A. Wierenga, W. de Jong, M. W. J. Prins, Th. Rasing, R. Vollmer, A. Kirilyuk, H. Schwabe, and J. Kirschner, Phys. Rev. Lett. 74, 1462 (1995).
5. Th. Rasing, M. Groot Koertkamp, B. Koopmans, and H. v.d. Berg, J. Appl. Phys. 79, 6181 (1996).
6. B. Koopmans, M. Groot Koerkamp, Th. Rasing, and H. van den Berg, Phys. Rev. Lett. 74, 3692 (1995).
7. N. Persat, H. A. M. van den Berg, K. Cherifi-Khodjaoui, and A. Dinia, J. Appl. Phys. 81, 4748 (1997).
8. O. B. Loopstra, E. R. van Snek, Th. H. de Keiser, and E. J. Mittemeijer, Phys. Rev. B 44, 13519 (1991).
9. H. A. Wierenga, M. W. J. Prins, and Th. Rasing, Physica B 204, 281 (1995).