Atomic force microscopy-based nanolithography on silicon using colloidal Au nanoparticles as a nanooxidation mask

Langmuir

Volumn 16, Issue 24, 2000, Pages 9673-9676

  Zheng, Jiwen ^a   Chen, Zhucheng ^a   Liu, Zhongfan ^a  

^a PEKING UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; COLLOIDS; ETCHING; GOLD; LITHOGRAPHY; MASKS; NANOSTRUCTURED MATERIALS; NANOTECHNOLOGY; OXIDATION; SILANES; WETTING;

NANOLITHOGRAPHY; NANOOXIDATION; WET CHEMICAL ETCHING;

SILICON;

EID: 0034318774     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la000705e     Document Type: Article

References (24)

1. Mamin, H. J.; Ried, R. P.; Terris, B. D.; Rugar, D. Proc.-IEEE 1999, 87, 1014.
2. Bouchiat, V.; Esteve, D. Appl. Phys. Lett. 1996, 69, 3098.
3. Snow, E. S.; Campell, P. M. Appl. Phys. Lett. 1994, 64, 1932.
4. Avouris, Ph.; Martel, R.; Sandstrom, R. Appl. Phys. A 1998, 66, S659.
5. Minne, S. C.; Flueckiger, Ph.; Soh, H. T.; Quate, C. F. J. Vac. Sci. Technol., B 1995, 13, 1380.
6. Legrand, B.; Stievenard, D. Appl. Phys. Lett. 1999, 74, 4049.
7. Garcia, R.; Calleja, M.; Murano, F. P. Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 2295.
8. Matsumoto, K.; Takahashi. S.; Ishii, M.; Hoshi, M.; Kurokawa, A.; Ando, A. Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 1995, 34, 1387.
9. Okada, Y.; Amano, S.; Kawabe, M.; Shimbo, B. N.; Harris, J. S. Jpn. J. Appl. Phys. 1998, 83, 1844.
10. Wang, D.; Tsau, L.; Wang, K. L.; Chow, P. Appl. Phys. Lett. 1995, 67, 1295.
11. Sugimura, H.; Nakagiri, N. Nanotechnology 1997, 8, A15.
12. Kim, J. C.; Oh, Y.; Lee, H. W.; Shin, Y. W.; Park, S. W. Jpn. J. Appl. Phys. Part 1 1998, 37, 7148.
13. Colvin, V. L.; Goldstein, A. N.; Alivisatos, A. P. J. Am. Chem. Soc. 1992, 114, 5221.
14. Jiang, P.; Liu, Z. F. Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 3023.
15. Doron, A.; Katz, E.; Willner, I. Langmuir 1995, 11, 1313.
16. Zhu, T.; Yu, H. Z.; Wang, J.; Wang, Y. Q.; Cai, S. M.; Liu, Z. F. Chem. Phys. Lett. 1997, 265, 334.
17. Lewis, P. A.; Ahmed, H.; Sato, T. J. Vac. Sci. Technol., B 1998, 16, 2938.
18. Wang, J.; Zhu, T.; Song, J. Q.; Liu, Z. F. Thin Solid Films 1998, 591, 327-329.
19. Freeman, R. G.; Grabar, K. C.; Allison, K. J.; Bright, R. M.; Davis, J. A.; Guthrie, A. P.; Hommer, M. B.; Jackson, M. A.; Smith, P. C.; Walter, D. G.; Natan, M. J. Science 1995, 267, 1629.
20. Sato, T.; Brown, D.; Johnson, B. F. G. Chem. Commun. 1997, 82, 697.
21. Frens, G. Nat. Phys. Sci. 1973, 241, 20.
22. Grabar, K. C.; Freeman, R. G.; Hommer, M.; Natan, M. J. J. Anal. Chem. 1995, 67, 735.
23. Sheiko, S. S.; Moller, M.; Reuvekamp, E. M. C. M.; Zandbergen, H. W. Phys. Rev. B 1993, 48, 5675.
24. Sugimura, H.; Nakagiri, N. J. Vac. Sci. Technol. A 1996, 14, 1223.