Imaging size-selected silicon clusters with a low-temperature scanning tunneling microscope

Surface Science

Volumn 465, Issue 3, 2000, Pages 331-338

  Messerli, Stéphane ^a   Schintke, Silvia ^a   Morgenstern, Karina ^a   Sanchez, Antonio ^a   Heiz, Ueli ^a   Schneider, Wolf Dieter ^a  

^a UNIVERSITY OF LAUSANNE   (Switzerland)

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DEPOSITION; ELECTRIC POTENTIAL; INTERFACES (MATERIALS); ISOMERS; LASER APPLICATIONS; SCANNING TUNNELING MICROSCOPY; SEMICONDUCTOR METAL BOUNDARIES; SILVER; STATISTICAL METHODS; TRANSPARENCY; VACUUM APPLICATIONS; VAPORIZATION;

LASER VAPORIZATION CLUSTER SOURCE;

SILICON;

EID: 0034291461     PISSN: 00396028     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0039-6028(00)00722-6     Document Type: Article

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